[實用新型]柔性透明導電薄膜和觸控面板

有效

• 申請號: 201320251703.2
• 申請日: 2013-05-10
• 公開（公告）號: CN203433832U
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發明（設計）人: 許生;張忠義;王學雷;梁銳生;王艷蕊
• 申請（專利權）人: 深圳市豪威薄膜技術有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;G06F3/041;G06F3/044
• 代理公司: 深圳匯智容達專利商標事務所(普通合伙) 44238
• 代理人: 潘中毅

1.一種柔性透明導電薄膜，其包括柔性基材和透明導電氧化物膜層，所述柔性基材具有相對的第一表面和第二表面，其特征在于，所述柔性基材的第一表面由內到外依次疊設有硅氧化物膜層、中間光學膜層、二氧化硅膜層，所述中間光學膜層為碳氧化硅層、氮氧化硅層或碳氮氧化硅層，所述透明導電氧化物膜層設于所述二氧化硅膜層上。

2.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述硅氧化物膜層為二氧化硅層。

3.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述硅氧化物膜層厚度在3-8?nm之間。

4.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述透明導電氧化物膜層是ITO膜層。

5.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述透明導電氧化物膜層的厚度在25-35nm之間。

6.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述中間光學膜層厚度在5-15nm之間。

7.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述二氧化硅膜層的厚度在35-60nm之間。

8.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述透明導電氧化物膜層是蝕刻的圖案層。

9.如權利要求1所述的柔性透明導電薄膜，其特征在于，所述硅氧化物膜層、中間光學膜層、二氧化硅膜層都是真空磁控濺射的鍍膜。

10.一種觸控面板，其包括如權利要求1-9任一項所述的柔性透明導電薄膜。