[發(fā)明專(zhuān)利]掩膜板及顯示面板的制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011165002.8
• 申請(qǐng)日: 2020-10-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112359317A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋陽(yáng);李存智;張凱;郭鐘旭
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京市立方律師事務(wù)所 11330
• 代理人: 張?bào)銓?宋海斌

1.一種掩膜板，其特征在于，包括：基礎(chǔ)部、第一部和至少一個(gè)開(kāi)口區(qū)；

所述第一部位于所述開(kāi)口區(qū)周?chē)?/p>

所述基礎(chǔ)部包圍所述第一部，所述基礎(chǔ)部的厚度大于所述第一部的厚度；所述厚度為沿第一方向的尺寸，所述第一方向?yàn)榇怪庇陲@示面板的基板的方向；

所述第一部的一側(cè)設(shè)有第一磁性部，所述第一磁性部在設(shè)計(jì)磁場(chǎng)作用下帶動(dòng)所述第一部翹曲。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一磁性部為涂覆在所述第一部一側(cè)的一層磁性層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述磁性層全部覆蓋所述第一部的一側(cè)表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述磁性層覆蓋所述第一部的表面的面積小于所述第一部的一側(cè)表面的面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板還包括以下至少一項(xiàng)：

所述第一部和所述第一磁性部在第一方向的厚度之和與所述基礎(chǔ)部在第一方向的厚度呈第一預(yù)設(shè)比例；

所述第一磁性部和所述第一部在第一方向的厚度呈第二預(yù)設(shè)比例；

所述基礎(chǔ)部在第一方向的厚度為50微米～200微米；

所述第一部在第一方向的厚度為25微米～100微米；

所述第一磁性部在第一方向的厚度為10微米～20微米。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基礎(chǔ)部的一側(cè)面和所述第一部的一側(cè)面齊平。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一部和基礎(chǔ)部為一體成型結(jié)構(gòu)；

所述第一部和基礎(chǔ)部均由磁性材質(zhì)制備而成；

所述第一部和基礎(chǔ)部的磁性均小于所述第一磁性部的磁性。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，所述第一磁性部采用涂覆、離子濺射或電鑄的方式沉積而成。

9.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括：

將如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述掩膜板置于顯示面板的待蒸鍍膜層或基板的一側(cè)，且將所述掩膜板中的開(kāi)口區(qū)與所述待蒸鍍膜層或所述基板的待蒸鍍區(qū)域?qū)R；

控制位于所述基板的另一側(cè)的磁場(chǎng)源輸出設(shè)計(jì)磁場(chǎng)，使得所述第一磁性部在所述設(shè)計(jì)磁場(chǎng)作用下帶動(dòng)所述掩膜板中的第一部朝向所述待蒸鍍膜層或所述基板翹曲，所述第一部靠近或接觸所述待蒸鍍膜層或所述基板；

通過(guò)所述開(kāi)口區(qū)對(duì)應(yīng)蒸鍍膜層材料，形成蒸鍍膜層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，

所述蒸鍍膜層包括以下至少一項(xiàng)：空穴傳輸層、電子傳輸層、電子阻擋層、空穴阻擋層、陰極層、氟化鋰層、耦合層。