[實用新型]一種拋光機定盤結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920963255.6
• 申請日: 2019-06-25
• 公開（公告）號: CN210232600U
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李玄
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶永信科技有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B41/06;B24B41/00;B24B55/00
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107
• 代理人: 蔣兵魁

本實用新型提供一種應(yīng)用于光電玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域的拋光機定盤結(jié)構(gòu)，所述的拋光機定盤結(jié)構(gòu)的定盤上盤(2)和定盤下盤(3)分別與拋光機本體(1)連接，定盤上盤(2)或定盤下盤(3)與電機連接，所述的定盤下盤(3)上表面粘貼聚對苯二甲酸類塑料膜層(4)，聚對苯二甲酸類塑料膜層(4)上表面粘貼吸附貼(5)，聚對苯二甲酸類塑料膜層(4)邊沿設(shè)置為能夠延伸到定盤下盤(3)的下盤側(cè)面(6)位置，本實用新型所述的拋光機定盤結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)簡單，在確保吸附貼可靠吸附，滿足工作要求同時，能夠方便快捷實現(xiàn)吸附貼更換，方便員工操作，減輕員工工作強度，避免殘留衣物未清理干凈造成的加工材料報廢問題出現(xiàn)，增加吸附貼使用周期。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于光電玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，是涉及一種拋光機定盤結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

TFT(Thin Film Transistor)光電玻璃薄化、表面拋光、光學(xué)鍍膜等產(chǎn)品精加工服務(wù)呈現(xiàn)發(fā)展趨勢，產(chǎn)品主要用于智能手機、平板電腦等移動智能終端。隨著技術(shù)發(fā)展，新式設(shè)備也隨之更新?lián)Q代，目前的加工設(shè)備存在某些弊端需進行改善。在這樣的技術(shù)背景下，為提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率，減輕員工勞動量，拋光機覆膜也隨之誕生，由于拋光機覆膜能大幅降低更換輔材員工的勞動量，加工比之傳統(tǒng)拋光機更容易清潔，拋光機覆膜應(yīng)用應(yīng)運而生；現(xiàn)有拋光機設(shè)備，吸附貼更換是依靠員工手動進行更換，在更換過程中，需要清理機臺上殘留的臟污、殘膠等異物，這樣大大加大了員工的工作勞動量，也無形增加了員工更換吸附貼的時間，降低了生產(chǎn)效率。因此，現(xiàn)有技術(shù)的缺點是：1，更換吸附貼時人員勞動強度大；2，更換時間過長，影響正常生產(chǎn)效率；3，員工未清理干凈機臺殘留異物，材料更換上去之后會造成材料報廢；4，生產(chǎn)過程中由于吸附貼直接和下盤貼附，進水幾率較大，材料更換周期較短。因此，現(xiàn)有技術(shù)無法有效滿足要求。

實用新型內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是：提供一種結(jié)構(gòu)簡單，在確保吸附貼可靠吸附，滿足工作要求同時，能夠方便快捷實現(xiàn)吸附貼更換，方便員工操作，減輕員工工作強度，避免殘留衣物未清理干凈造成的加工材料報廢問題出現(xiàn)，增加吸附貼使用周期的拋光機定盤結(jié)構(gòu)。

要解決以上所述的技術(shù)問題，本實用新型采取的技術(shù)方案為：

本實用新型為一種拋光機定盤結(jié)構(gòu)，所述的拋光機定盤結(jié)構(gòu)包括拋光機本體、定盤上盤、定盤下盤，定盤上盤和定盤下盤分別與拋光機本體連接，定盤上盤或定盤下盤與電機連接，電機與能夠控制電機啟停的控制部件連接，所述的定盤下盤上表面粘貼聚對苯二甲酸類塑料膜層，聚對苯二甲酸類塑料膜層上表面粘貼吸附貼，所述的聚對苯二甲酸類塑料膜層邊沿設(shè)置為能夠延伸到定盤下盤的下盤側(cè)面位置，吸附貼設(shè)置為氟聚氨酯多孔膜材料制成的結(jié)構(gòu)。

所述的定盤上盤設(shè)置為圓柱狀結(jié)構(gòu)，定盤下盤設(shè)置為圓柱狀結(jié)構(gòu)，定盤下盤的下盤側(cè)面位置設(shè)置多個凹槽部。

所述的吸附貼設(shè)置為能夠延伸到定盤下盤上表面邊沿部位置的結(jié)構(gòu)，吸附貼與定盤下盤上表面形狀和大小相同。

所述的拋光機定盤結(jié)構(gòu)的定盤下盤的下盤側(cè)面沿下盤側(cè)面一周按間隙設(shè)置多個凹槽部。

所述的拋光機定盤結(jié)構(gòu)的定盤上盤與電機連接，電機與拋光機本體連接，定盤下盤與拋光機本體連接。

所述的聚對苯二甲酸類塑料膜層邊沿延伸到定盤下盤的下盤側(cè)面位置時，聚對苯二甲酸類塑料膜層設(shè)置為能夠?qū)⒚總€凹槽部遮擋部分的結(jié)構(gòu)。

采用本實用新型的技術(shù)方案，能得到以下的有益效果：