[實用新型]自吸式攪拌反應裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920960053.6
• 申請日: 2019-06-25
• 公開（公告）號: CN210544848U
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 于軍旗
• 申請（專利權(quán)）人: 于軍旗
• 主分類號: B01F13/10
• 分類號: B01F13/10;B01F15/02;B01J19/18
• 代理公司: 深圳市興科達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44260
• 代理人: 覃曼萍

一種自吸式攪拌反應裝置通過設(shè)置物料桶、自吸式管道機構(gòu)及攪拌反應池，自吸式管道機構(gòu)分別與物料桶及攪拌反應池連通，自吸式管道機構(gòu)包括第一連通組、第二連通組及第三連通組，本實用新型利用內(nèi)循環(huán)泵浦及負壓發(fā)生器產(chǎn)生文丘里效應，氧化銅粉在負壓下被吸入管道，且在管道內(nèi)瞬間與藥液充分混合，杜絕與大氣接觸，解決氧化銅粉塵對環(huán)境污染的問題。利用少量管道替代現(xiàn)有的機械傳動機構(gòu)，降低制作成本，縮小設(shè)備體積，降低故障率，提高空間利用率及可靠性；解決現(xiàn)有技術(shù)上所存在的功耗大、占地面積大、環(huán)境污染大、制作成本大、維護成本大的缺陷。通過在物料桶上增加計重傳感器，實時監(jiān)控物料桶余料。再通過系統(tǒng)計算比對，精確控制添加量。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及攪拌反應裝置技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種自吸式攪拌反應裝置。

背景技術(shù)

目前，在電路板的生產(chǎn)中，其中有一個工序是需要給電路板鍍銅，以使電路板能夠連接導通各個電子元件，且能夠起到增強電路板的硬度及相應的柔韌性，使得電路板不易發(fā)生折斷。電路板鍍銅用的銅液是硫酸銅溶液，在硫酸銅溶液的生產(chǎn)是將氧化銅粉與硫酸在通入氧氣的條件下進行反應得到，此反應需要用到攪拌反應裝置。

傳統(tǒng)的氧化銅粉攪拌反應裝置主要由：1、螺旋提升機構(gòu)(功率：1.5KW)； 2、螺旋添加機構(gòu)(功率：0.2-0.4KW)；3、攪拌機構(gòu)(功率：0.75KW)；4、鼓泡風機(功率：1.5KW)四部分組成，合計功率約4.15KW，傳統(tǒng)的氧化銅粉攪拌反應裝置的組成機構(gòu)多，制作成本高，在對傳統(tǒng)的氧化銅粉攪拌反應裝置的維護上相對的成本較高，于此同時傳統(tǒng)的氧化銅粉攪拌反應裝置功率耗損較大。

傳統(tǒng)的氧化銅粉攪拌反應裝置的工作流程：1、氧化銅粉通過螺旋提升機構(gòu)，將氧化銅粉提升到螺旋添加機構(gòu)；2、螺旋添加機構(gòu)再將氧化銅粉通過絞龍葉片旋轉(zhuǎn)添加到攪拌槽內(nèi)(注：落料口與液面有300-400MM落差)；3、攪拌馬達再將氧化銅粉與槽內(nèi)硫酸液體攪拌均勻，同時鼓泡風機向槽底通氣，加速物質(zhì)反應。

然而，由于落料口與液面有300-400MM落差，氧化銅粉下落過程中會產(chǎn)生較多粉塵分散在落料口與液面形成的空間內(nèi)，氧化銅與硫酸液體在通入氧氣的條件下反應放熱，使得槽內(nèi)氣壓大于槽外氣壓，落料口與硫酸液面之間分散的粉塵則容易經(jīng)設(shè)備縫隙外漏至槽外，由于氧化銅粉，化學式為CuO，是一種銅的黑色氧化物，使得氧化銅粉攪拌反應裝置的周邊布滿黑色的粉塵，影響進入氧化銅粉攪拌反應裝置操作空間的操作人員的呼吸道健康及周邊環(huán)境衛(wèi)生。

與此同時，添加氧化銅粉的量的多少，在添加前需要根據(jù)電路板鍍銅反應池內(nèi)的硫酸銅的濃度或電流值反饋給到系統(tǒng)后，通過程序設(shè)定控制添加馬達運轉(zhuǎn)時間或者旋轉(zhuǎn)角度來控制每次添加量，然而，由于氧化銅粉外漏至槽外，以及控制精度的不穩(wěn)定，使得所添加的氧化銅粉累計誤差較大，進而使得氧化銅粉添加比例精度降低。

由上述可知，傳統(tǒng)的氧化銅粉攪拌反應裝置存在如下缺點：1、組成機構(gòu)多，結(jié)構(gòu)不夠緊湊精簡；2、功率耗損大；3、環(huán)境污染較重；4、氧化銅粉添加比例精度低。

實用新型內(nèi)容

基于此，有必要設(shè)計一種自吸式攪拌反應裝置，以解決組成機構(gòu)多，功率耗損大，環(huán)境污染較重以及氧化銅粉添加比例精度低的問題。

一種自吸式攪拌反應裝置，包括物料桶、自吸式管道機構(gòu)及攪拌反應池，所述自吸式管道機構(gòu)分別與所述物料桶及所述攪拌反應池連通；

所述自吸式管道機構(gòu)包括第一連通組、第二連通組及第三連通組，所述第一連通組與所述攪拌反應池連通，所述第二連通組與所述第一連通組連通，所述第三連通組分別與所述第一連通組及所述第二連通組連通；