[實用新型]一種適用于鎵銦錫合金介質的變送器充灌裝置有效
| 申請號: | 201920912930.2 | 申請日: | 2019-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN210014790U | 公開(公告)日: | 2020-02-04 |
| 發明(設計)人: | 許明洋;石靜 | 申請(專利權)人: | 重慶四聯測控技術有限公司 |
| 主分類號: | G01D5/42 | 分類號: | G01D5/42 |
| 代理公司: | 31219 上海光華專利事務所(普通合伙) | 代理人: | 尹麗云 |
| 地址: | 401121 重慶市渝北*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鎵銦錫合金 變送器 吸附法 隔離膜片 本實用新型 真空抽取口 下端 充灌裝置 灌孔 腔體 容置 | ||
本實用新型提出一種適用于鎵銦錫合金介質的變送器充灌裝置,包括有變送器和充灌結構,充灌結構位于變送器的下端,且與變送器固定連接;充灌結構內部設有一用于容置液態的鎵銦錫合金介質的腔體;充灌結構還開設有一用于充灌液態的鎵銦錫合金介質的介質充灌孔;充灌結構的下端還固定連接有吸附法蘭,在充灌結構與吸附法蘭之間設置有一隔離膜片;吸附法蘭還開設有一真空抽取口,且隔離膜片與真空抽取口接觸。本實用新型能夠將液態的鎵銦錫合金介質充灌至變送器中,同時還可以在液態的鎵銦錫合金介質充灌完成后,通過吸附法蘭保護隔離膜片不被損壞。
技術領域
本實用新型涉及變送器技術領域,尤其涉及一種適用于鎵銦錫介質的變送器充灌裝置。
背景技術
目前針對變送器的充灌介質溫度適用范圍通常在400℃以下,而對于接液溫度通常在700℃以上的熔鹽加熱系統裝置及其它一些需超高溫測量的場合,其壓力測量已無法實現。為了適應超高溫工況,新型超高溫變送器采用了新型的鎵銦錫金屬合金作為充灌介質以及二級分離式散熱方式。由于鎵銦錫金屬合金充灌介質的物理特性與通用變送器充灌介質的物力特性差異太大,加上新型超高溫變送器的特殊結構,現有的變送器充灌裝置已經不能滿足新型高溫變送器的充灌要求,需要根據新型高溫變送器的特點重新研發一種專用介質充灌裝置。
實用新型內容
鑒于以上現有技術存在的問題,本實用新型提出一種適用于鎵銦錫合金介質的變送器充灌裝置,主要解決現有的充灌裝置不能滿足新型高溫變送器的充灌要求的問題。
為了實現上述目的及其他目的,本實用新型采用的技術方案如下:
一種適用于鎵銦錫合金介質的變送器充灌裝置,包括有變送器和充灌結構,所述充灌結構位于所述變送器的下端,且與所述變送器固定連接;
所述充灌結構內部設有一用于容置液態的鎵銦錫合金介質的腔體;所述充灌結構還開設有一用于充灌液態的鎵銦錫合金介質的介質充灌孔;
所述充灌結構的下端還固定連接有吸附法蘭,在所述充灌結構與所述吸附法蘭之間設置有一隔離膜片;
所述吸附法蘭還開設有一真空抽取口,且所述隔離膜片與所述真空抽取口接觸。
可選地,所述介質充灌孔開設于所述充灌結構的側面,且所述介質充灌孔與所述用于容置鎵銦錫合金介質的充灌腔體垂直。
可選地,在所述吸附法蘭與所述充灌結構的連接處還設置有用于進行真空密封的密封圈。
可選地,所述吸附法蘭的上端開設有凹槽,所述密封圈位于所述凹槽內。
可選地,所述密封圈為O型密封圈。
可選地,所述吸附法蘭通過一對壓緊單元與所述充灌結構進行固定;
所述壓緊單元包括有壓緊盤和壓緊螺釘組件;
所述壓緊盤固定設置在所述吸附法蘭底部,所述壓緊螺釘組件穿過所述充灌結構預先開設的通孔后與所述壓緊盤固定連接。
如上所述,本實用新型一種適用于鎵銦錫合金介質的變送器充灌裝置,具有以下有益效果:能夠將液態的鎵銦錫合金介質充灌至變送器中,同時還可以在液態的鎵銦錫合金介質充灌完成后,通過吸附法蘭保護隔離膜片不被損壞。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖。
圖2a為未充灌液態鎵銦錫合金介質時隔離膜片在自由狀態下的位置。
圖2b為充灌液態鎵銦錫合金介質后隔離膜片受介質重力作用下的位置。
圖3為圖1中A處放大圖。
圖4a和圖4b為吸附法蘭限位臺階面不同高度差的充灌狀態示意圖。
標號說明
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