[實用新型]一種適用于鎵銦錫合金介質(zhì)的變送器充灌裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920912930.2
• 申請日: 2019-06-18
• 公開（公告）號: CN210014790U
• 公開（公告）日: 2020-02-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許明洋;石靜
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶四聯(lián)測控技術(shù)有限公司
• 主分類號: G01D5/42
• 分類號: G01D5/42
• 代理公司: 31219 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 尹麗云

1.一種適用于鎵銦錫合金介質(zhì)的變送器充灌裝置，其特征在于，包括有變送器和充灌結(jié)構(gòu)，所述充灌結(jié)構(gòu)位于所述變送器的下端，且與所述變送器固定連接；

所述充灌結(jié)構(gòu)內(nèi)部設(shè)有一用于容置液態(tài)的鎵銦錫合金介質(zhì)的腔體；所述充灌結(jié)構(gòu)還開設(shè)有一用于充灌液態(tài)的鎵銦錫合金介質(zhì)的介質(zhì)充灌孔；

所述充灌結(jié)構(gòu)的下端還固定連接有吸附法蘭，在所述充灌結(jié)構(gòu)與所述吸附法蘭之間設(shè)置有一隔離膜片；

所述吸附法蘭還開設(shè)有一真空抽取口，且所述隔離膜片與所述真空抽取口接觸。

2.如權(quán)利要求1所述的適用于鎵銦錫合金介質(zhì)的變送器充灌裝置，其特征在于，所述介質(zhì)充灌孔開設(shè)于所述充灌結(jié)構(gòu)的側(cè)面，且所述介質(zhì)充灌孔與所述用于容置鎵銦錫合金介質(zhì)的充灌腔體垂直。

3.如權(quán)利要求1所述的適用于鎵銦錫合金介質(zhì)的變送器充灌裝置，其特征在于，在所述吸附法蘭與所述充灌結(jié)構(gòu)的連接處還設(shè)置有用于進(jìn)行真空密封的密封圈。

4.如權(quán)利要求3所述的適用于鎵銦錫合金介質(zhì)的變送器充灌裝置，其特征在于，所述吸附法蘭的上端開設(shè)有凹槽，所述密封圈位于所述凹槽內(nèi)。

5.如權(quán)利要求3或4所述的適用于鎵銦錫合金介質(zhì)的變送器充灌裝置，其特征在于，所述密封圈為O型密封圈。

6.如權(quán)利要求1所述的適用于鎵銦錫合金介質(zhì)的變送器充灌裝置，其特征在于，所述吸附法蘭通過一對壓緊單元與所述充灌結(jié)構(gòu)進(jìn)行固定；

所述壓緊單元包括有壓緊盤和壓緊螺釘組件；

所述壓緊盤固定設(shè)置在所述吸附法蘭底部，所述壓緊螺釘組件穿過所述充灌結(jié)構(gòu)預(yù)先開設(shè)的通孔后與所述壓緊盤固定連接。