[實用新型]一種真空甩帶爐

有效

• 申請號: 201920911700.4
• 申請日: 2019-06-18
• 公開（公告）號: CN210231464U
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發明（設計）人: 王成剛;趙振中;王成才;陳曉杰
• 申請（專利權）人: 河南酷斯特儀器科技有限公司
• 主分類號: B22D11/06
• 分類號: B22D11/06;B22D11/11;F27B14/04;F27B14/06
• 代理公司: 鄭州智多謀知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 41170
• 代理人: 馬士騰

本實用新型涉及真空熔煉技術領域，尤其涉及一種真空甩帶爐。一種真空甩帶爐，包括底座和高真空腔室，高真空腔室一側設置有室門，底座上設置有控制部，控制部包括裝設在底座中的控制操作器件以及控制操作界面，高真空腔室設置在底座上部，高真空腔室的底部設置有廢料托盤，廢料托盤上部設置有甩帶銅滾，甩帶銅滾朝向高真空腔室外部的一側連接有伺服電機，甩帶銅滾上部設置有熔煉部，熔煉部包括高頻線圈和伸出高真空腔室的電極接口，高真空腔室上側設置有噴鑄升降裝置和甩帶升降裝置，噴鑄升降裝置和甩帶升降裝置間隔設置，噴鑄升降裝置連接有噴鑄坩堝，甩帶升降裝置連接有甩帶坩堝，噴鑄坩堝和甩帶坩堝設置在高真空腔室內部。

技術領域

本實用新型涉及真空熔煉技術領域，尤其涉及一種真空甩帶爐。

背景技術

由于非晶、微晶態材料優異的性能，其研究得到了廣泛的關注，在制備這類材料的過程往往需要用到真空甩帶爐。真空甩帶爐是指在真空環境下，進行加熱將備選原料進行熔化，繼而采用甩輪冷凝系統使得融化的原料進行冷卻，形成非晶態、晶態材料。

隨著科技的進步和創新，相關的設備不斷更新，真空甩帶爐性能不斷提高，但是現有的真空甩帶爐仍然存在著一些問題。現有的真空甩帶爐往往功能比較單一，甩帶、熔煉以及噴鑄等往不能一體操作和控制系統和爐子分開布置導致的占地面積大和操作性差等諸多問題。

實用新型內容

本實用新型提供一種真空甩帶爐，以解決現有現有的真空甩帶爐往往功能比較單一和地面積大和操作性差的問題。

本實用新型的一種真空甩帶爐,采用如下技術方案：一種真空甩帶爐，包括底座和高真空腔室，高真空腔室一側設置有室門，其特征在于：所述的底座上設置有控制部，所述的控制部包括裝設在底座中的控制操作器件以及控制操作界面，所述的高真空腔室設置在所述的底座上部，所述的高真空腔室的底部設置有廢料托盤，所述的廢料托盤上部設置有甩帶銅滾，所述的甩帶銅滾朝向高真空腔室外部的一側連接有伺服電機，所述的甩帶銅滾上部設置有熔煉部，所述的熔煉部包括高頻線圈和伸出高真空腔室的電極接口，所述的高真空腔室上側設置有噴鑄升降裝置和甩帶升降裝置，所述的噴鑄升降裝置和甩帶升降裝置間隔設置，所述的噴鑄升降裝置連接有噴鑄坩堝，所述的甩帶升降裝置連接有甩帶坩堝，所述的噴鑄坩堝和甩帶坩堝設置在高真空腔室內部。

所述的噴鑄升降裝置上設置有第一距離微調裝置，所述的甩帶升降裝置上設置有第二距離微調裝置。

所述的甩帶升降裝置與所述的高真空腔室之間設置有威爾遜軸向密封件。

所述的噴鑄升降裝置上連接有氣流調節裝置。

所述的底座一側設置有電氣控制箱。

所述的高真空腔室的側面上設置有外抽真空接口，所述的高真空腔室的內部設置有內抽真空接口。

所述的伺服電機與所述的甩帶銅滾之間連接有旋轉磁流體密封裝置。

所述的電極接口套裝有電極接口保護罩。

所述的室門上開設有大口徑觀察窗和第一照明觀察窗，在所述的高真空腔室安裝伺服電機的一側面上開設有第二照明觀察窗。

所述的甩帶銅滾遠離伺服電機的一側設置有對甩帶銅滾進行緊鎖的銅滾鎖緊件。