[實用新型]一種基于雙熔池的固廢氣化熔融焚燒系統

有效

• 申請號: 201920901137.2
• 申請日: 2019-06-14
• 公開（公告）號: CN210267234U
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 馬加德;張志霄
• 申請（專利權）人: 馬加德
• 主分類號: F23G5/04
• 分類號: F23G5/04;F23G5/027;F23G5/16;F23G5/44;F23G5/46;F23G5/50
• 代理公司: 杭州君度專利代理事務所(特殊普通合伙) 33240
• 代理人: 黃前澤

1.一種基于雙熔池的固廢氣化熔融焚燒系統，包括氣化熔融爐、熔融室，其特征在于：還包括二燃室；所述的氣化熔融爐包括進料口、干燥風接口、氣化風集管、氣化風支管、熔融風集管、熔融風支管和氣化熔融爐爐體；氣化熔融爐爐體內腔由上至下依次為空層、干燥層、氣化層和熔融層；所述的氣化熔融爐爐體開設有與熔融室連通的底部出口；干燥風接口位于氣化熔融爐爐體側部，干燥風接口的出氣端連通空層；干燥風選用空氣時，干燥風接口的進氣端通過管道連通余熱利用設備的空氣預熱器一，空氣預熱器一通過管道連通鼓風機一的出風口，鼓風機一的進風口開放，空氣預熱器一向空層供入的干燥風溫度為0～250℃；干燥風選用氧氣或富氧時，干燥風接口的進氣端通過管道連通制氧機組，干燥風溫度為常溫；進料口位于氣化熔融爐爐體頂部或側部；進料口的出料端連通空層，密封進料機構設置在進料口的進料端；

所述的氣化風支管設有沿周向均布的兩根以上，氣化風支管的出氣端連通氣化熔融爐的氣化層；每根氣化風支管的進氣端通過管道連通環狀的氣化風集管的一個出氣口；氣化風選用空氣時，氣化風集管的進氣端通過管道連通余熱利用設備的空氣預熱器二，空氣預熱器二通過管道連通鼓風機二的出風口，鼓風機二的進風口開放，空氣預熱器二向氣化層供入的氣化風溫度為0～600℃；氣化風選用氧氣或富氧時，氣化風集管的進氣端通過管道連通制氧機組，氣化風溫度為常溫；氣化風選用空氣與水蒸氣混合氣時，氣化風集管的進氣端通過管道連通余熱利用設備的空氣預熱器二，空氣預熱器二通過管道連通鼓風機二的出風口，鼓風機二的進風口開放，水蒸汽管與氣化風集管的進氣端通過管道連通，氣化風集管輸出的氣化風溫度為0～600℃；氣化風選用氧氣與水蒸氣混合氣或富氧與水蒸氣混合氣時，氣化風集管的進氣端通過管道同時連通制氧機組和水蒸汽管，氣化風集管輸出的氣化風溫度為20～80℃；

所述的熔融風支管設有沿周向均布的兩根以上，熔融風支管的出氣端連通氣化熔融爐的熔融層；每根熔融風支管的進氣端通過管道連通環狀的熔融風集管的一個出氣口；熔融風選用空氣時，熔融風集管的進氣端通過管道連通余熱利用設備的空氣預熱器三，空氣預熱器三通過管道連通鼓風機三的出風口，鼓風機三的進風口開放，空氣預熱器三向熔融層供入的熔融風溫度為0～600℃；熔融風選用氧氣或富氧時，熔融風集管的進氣端通過管道連通制氧機組，熔融風溫度為常溫；

所述的熔融室由上熔池、下熔池、下熔池擋堰、熔融燃燒器、折煙墻和熔融室爐體組成；熔融室爐體的進口連通氣化熔融爐爐體的底部出口；所述的下熔池位于熔融室爐體底部，上熔池固定于下熔池上，并同軸設置在氣化熔融爐爐體的底部出口正下方，上熔池頂部為凹臺，凹臺底面面積大于氣化熔融爐爐體的底部出口面積；所述的下熔池設有下熔池擋堰，熔融室爐體頂部設有折煙墻，折煙墻比下熔池擋堰靠近上熔池設置；折煙墻底面低于上熔池頂面設置，下熔池擋堰頂面低于折煙墻的底面設置；下熔池擋堰和折煙墻之間的空間為熔融室爐體的出口；所述的熔融室中設置溫度傳感器，溫度傳感器的信號輸出端接控制器；熔融燃燒器位于熔融室爐體側部，由控制器控制；熔融室的溫度設定在1300～1500℃；

所述的二燃室包括二次風接口、二燃室爐體、二燃室出口和熔融渣出口；二燃室爐體的進口連通熔融室爐體的出口；熔融渣出口設置在熔融室爐體底部，熔融渣出口的進口端連通二燃室爐體內腔，出口端開放設置；二燃室出口的進口端連通二燃室爐體內腔，出口端通過管道連通余熱利用設備；熔融渣出口正下方設置水池；二次風接口設置在靠近二燃室爐體的進口位置；二次風接口的出氣端連通二燃室爐體的內腔；二次風選用空氣時，二次風接口的進氣端通過管道連通余熱利用設備的空氣預熱器四，空氣預熱器四通過管道連通鼓風機四的出風口，鼓風機四的進風口開放，空氣預熱器四向二燃室供入的二次風溫度為0～600℃；二次風選用氧氣或富氧時，二次風接口的進氣端通過管道連通制氧機組，二次風溫度為常溫；在熔融室爐體也設置有二次風接口，兩根以上的二次風接口設置在靠近熔融燃燒器兩側，二次風接口的出氣端連通熔融室爐體的內腔，熔融室的二次風接口與二燃室的二次風接口的進氣端通過管道連通。

2.根據權利要求1所述的一種基于雙熔池的固廢氣化熔融焚燒系統，其特征在于：所述的干燥層和氣化層之間形成干餾層，干餾層的溫度源于氣化層的熱輻射和熱傳導。