[實用新型]一種非晶納米晶帶材生產(chǎn)用拋光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920834429.9
• 申請日: 2019-06-04
• 公開（公告）號: CN210099698U
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 扈忠濤
• 申請（專利權(quán)）人: 山東磁隆電子科技有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B41/00;B24B55/03;B24B55/04;B24B57/02
• 代理公司: 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11411
• 代理人: 蘇友娟

本實用新型公開了一種非晶納米晶帶材生產(chǎn)用拋光裝置，包括防護(hù)罩、殼體、拋光室、蓄水室和循環(huán)水罐，所述殼體的內(nèi)部設(shè)有拋光室，所述拋光室位置處的殼體一端設(shè)有進(jìn)料口。本實用新型通過在防護(hù)罩內(nèi)部的第一電動伸縮桿與第二伸縮桿輸出端設(shè)有相配合的拋光輥，并將布液管遠(yuǎn)離水泵的一端延伸至防護(hù)罩內(nèi)部的拋光輥位置處，一方面便于調(diào)整上下端拋光輥之間的間距便于對不同厚度的帶材進(jìn)行拋光，另一方面布液管不僅對拋光輥進(jìn)行冷卻，避免拋光輥長時間與帶材摩擦產(chǎn)生高溫對帶材造成損傷，提升拋光輥使用效果及使用壽命，便于對拋光后的帶材進(jìn)行清理，避免灰塵飛揚，且防護(hù)罩的使用避免在拋光過程中產(chǎn)生廢屑及廢液的飛濺。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及拋光裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種非晶納米晶帶材生產(chǎn)用拋光裝置。

背景技術(shù)

拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法，是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質(zhì)對工件表面進(jìn)行的修飾加工，拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時也用以消除光澤(消光)，通常以拋光輪作為拋光工具，拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側(cè)用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。

目前，現(xiàn)有的非晶納米晶帶材生產(chǎn)用拋光裝置在進(jìn)行拋光的過程中為了使拋光后的非晶納米晶表面不沾染廢屑更加光滑，常常利用清潔水對拋光后的帶材進(jìn)行清洗，但長時間的拋光生產(chǎn)水資源浪費嚴(yán)重，不便于進(jìn)行循環(huán)利用，且不便于對拋光過程中產(chǎn)生的廢屑進(jìn)行收集，容易污染生產(chǎn)環(huán)境，不便于對不同厚度的帶材進(jìn)行拋光，工作效率較低。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種非晶納米晶帶材生產(chǎn)用拋光裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的現(xiàn)有非晶納米晶帶材生產(chǎn)用拋光裝置在進(jìn)行拋光的過程中為了使拋光后的非晶納米晶表面不沾染廢屑更加光滑，常常利用清潔水對拋光后的帶材進(jìn)行清洗，但長時間的拋光生產(chǎn)水資源浪費嚴(yán)重，不便于進(jìn)行循環(huán)利用，且不便于對拋光過程中產(chǎn)生的廢屑進(jìn)行收集，容易污染生產(chǎn)環(huán)境，不便于對不同厚度的帶材進(jìn)行拋光，工作效率較低問題。