[實用新型]聲學裝置及電子設備

有效

• 申請號: 201920805194.0
• 申請日: 2019-05-30
• 公開（公告）號: CN209824004U
• 公開（公告）日: 2019-12-20
• 發明（設計）人: 劉春發;徐同雁;張成飛
• 申請（專利權）人: 歌爾股份有限公司
• 主分類號: H04R9/06
• 分類號: H04R9/06;H04R9/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種聲學裝置,包括第一密閉腔和第二密閉腔，其中，間隔部可以至少部分柔性形變，第一密閉腔鄰接振動膜片，第二密閉腔遠離振動膜片；當振動膜片振動時，第一密閉腔的內部聲壓發生變化，間隔部的柔性形變部隨第一密閉腔內的聲壓變化而產生形變，對第一密閉腔進行容積大小的柔性調節；第二密閉腔將柔性形變部在形變時產生的聲波封閉在第二密閉腔內；柔性形變部至少局部區域的楊氏模量或強度小于所述第一密閉腔的腔壁和/或所述第二密閉腔的腔壁，且柔性形變部的全部或局部區域的楊氏模量小于等于8000Mpa。本實用新型中的聲學裝置可以有效降低諧振頻率，整體上較大幅度提升產品的低頻段靈敏度。

技術領域

本實用新型涉及聲學技術領域，更具體地，涉及一種聲學裝置及安裝有該聲學裝置的電子設備。

背景技術

一般而言，傳統結構的聲學系統(現有技術1)包括封閉箱體和設置在封閉箱體上的發聲單元，封閉箱體與發聲單元之間形成腔室，由于聲學系統中的的腔室的容積限制，聲學系統尤其是小型聲學系統很難實現能令人滿意地再現低音的效果。常規地，為了在聲學系統中實現令人滿意的低音再現，通常采用兩種手段，一種是將吸音材料(例如活性炭、沸石等)設置于聲學系統的箱體內，用于吸附或脫附箱體內的氣體，起到容積增大進而降低低頻諧振頻率的效果，另一種是在聲學系統的箱體上設置被動輻射體(現有技術2)，例如圖1所示，其中，10為發聲單元，20為聲學系統的箱體，30為被動輻射體，發聲單元和被動輻射體同時對外輻射聲音，利用被動輻射體與箱體在特定頻點fp(共振頻率點)形成強烈共振的原理，將發聲單元和被動輻射體兩者的聲波連通疊加，對共振頻率點fp附近局部靈敏度進行增強(例如，參見專利CN1939086A)。但是上述兩種手段均存在問題，第一種在箱體中添加吸音材料的方案，需要實現吸音材料的良好密封封裝，否則如果吸音材料進入揚聲器單元，則損害揚聲器單元的聲學性能，影響揚聲器單元的使用壽命；第二種采用被動輻射體的方案，在共振頻率點fp附近，被動輻射體強烈輻射，發聲單元近乎停止，因此可以通過被動輻射體的高靈敏度設計，在fp附近頻段實現聲學系統的局部靈敏度增強；但在fp以下頻段，被動輻射體與發聲單元聲波相位相反，聲波相互抵消，被動輻射體對聲學系統靈敏度起負面作用?？傃灾?，被動輻射體只能提升共振點附近頻段的靈敏度，不能對全部低頻段有所提升。如圖2所示，圖2是現有技術2與現有技術1在不同頻率下響度的測試曲線(SPL曲線)。所以有必要對現有技術存在的缺陷做進一步的改進。

實用新型內容

本實用新型的一個目的是提供一種有效降低諧振頻率，整體上較大幅度提升產品的低頻段靈敏度的聲學裝置。

為解決上述技術問題，本實用新型提供的技術方案是：一種聲學裝置,包括：

發聲單元，所述發聲單元包括振動膜片，所述聲學裝置上設置有出聲口，所述振動膜片前側的聲波通過所述出聲口對外輻射；

所述振動膜片后側形成密閉的密閉腔，所述密閉腔被間隔部間隔成第一密閉腔和第二密閉腔，其中，所述間隔部可以至少部分柔性形變，所述第一密閉腔鄰接所述振動膜片，所述第二密閉腔遠離所述振動膜片；

當所述振動膜片振動時，所述第一密閉腔的內部聲壓發生變化，所述間隔部的柔性形變部隨第一密閉腔內的聲壓變化而產生形變，對所述第一密閉腔進行容積大小的柔性調節；所述第二密閉腔將所述柔性形變部在形變時產生的聲波封閉在所述第二密閉腔內；

所述柔性形變部的至少局部區域的楊氏模量或強度小于所述第一密閉腔的腔壁和/或所述第二密閉腔的腔壁的楊氏模量或強度，所述柔性形變部的全部或局部區域的楊氏模量小于等于8000Mpa。

優選的，所述柔性形變部的可以產生形變的有效形變面積與所述振動膜片的有效振動面積的比值大于等于10％。

優選的，所述柔性形變部的厚度小于等于0.5mm。