[實用新型]一種高縱橫比背鉆孔深度控制裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920782435.4 | 申請日： | 2019-05-28 |
| 公開（公告）號： | CN210059906U | 公開（公告）日： | 2020-02-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王欣;高團芬;王金平 | 申請（專利權(quán)）人： | 華宇華源電子科技(深圳)有限公司 |
| 主分類號： | B23B49/00 | 分類號： | B23B49/00 |
| 代理公司： | 44355 深圳市科冠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 王海駿 |
| 地址： | 518000 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電阻 深度感應(yīng) 滑軌 滑塊 主軸箱 鉆孔 鉆機 鉆針 深度控制裝置 本實用新型 閉合回路 高縱橫比 滑動設(shè)置 脈沖變化 深度控制 向下運動 有效通電 反饋 背鉆孔 感應(yīng)箱 接觸板 換算 震動 記錄 | ||
1.一種高縱橫比背鉆孔深度控制裝置，包括鉆針和驅(qū)動其的主軸箱；其特征在于，還包括兩條并列的縱向設(shè)置的電阻滑軌、滑動設(shè)置在兩所述電阻滑軌上的電阻滑塊，和深度感應(yīng)箱；所述深度感應(yīng)箱、兩條所述電阻滑軌以及所述電阻滑塊形成閉合回路；所述電阻滑塊與所述主軸箱固定連接并由其帶動縱向運動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高縱橫比背鉆孔深度控制裝置，其特征在于，所述高縱橫比背鉆孔深度控制裝置還包括位于所述電阻滑塊上方的光源測距儀，所述電阻滑塊的上表面設(shè)置為與所述光源測距儀配合的鏡面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高縱橫比背鉆孔深度控制裝置，其特征在于，所述光源測距儀安裝在所述深度感應(yīng)箱的外殼上且位于所述電阻滑塊的正上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高縱橫比背鉆孔深度控制裝置，其特征在于，所述電阻滑軌與所述電阻滑塊均采用鋁合金材料制作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高縱橫比背鉆孔深度控制裝置，其特征在于，所述電阻滑軌為寬度在0.5-2CM的方形條結(jié)構(gòu)，長度在20-40CM。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高縱橫比背鉆孔深度控制裝置，其特征在于，相鄰兩個所述電阻滑軌間距為0.5-2CM。
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