[實用新型]一種適用于拋光機的拋光液及純水供應管路

有效

• 申請號: 201920773233.3
• 申請日: 2019-05-27
• 公開（公告）號: CN210255747U
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 郭光燦;馬龍峰;賈波;范強
• 申請（專利權）人: 麥斯克電子材料有限公司
• 主分類號: B24B57/02
• 分類號: B24B57/02
• 代理公司: 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120
• 代理人: 王學鵬

一種適用于拋光機的拋光液及純水供應管路，包括純水拋光系統和拋光液拋光系統和主管道，純水拋光系統包括第一管道和與第一管道并聯的第二管道，第一管道上設置有大流量氣動閥，第二管道上設置有小流量氣動閥，純水分別通過純水大流量氣動閥和小流量氣動閥匯入設置有第一流量計的第三管道；拋光液拋光系統包括第四管道和設置在第四管道上的拋光液調節閥和第一單向閥；第三管道和第四管道匯入主管道，主管道上設置有主氣動閥、第二流量計和第一溫度探頭。本實用新型有效解決了拋光機拋光液過濾器出口到主轉盤中心管處結晶的形成，結構簡單，安裝操作方便，安全性穩定性好，經實踐驗證，降低了設備故障率，增強了工藝穩定性，明顯地提高了產品收率。

技術領域

本實用新型屬于單晶硅拋光片生產技術領域，具體涉及一種適用于拋光機的拋光液及純水供應管路。

背景技術

單晶硅拋光片是IC行業的基礎材料，而拋光機是生產拋光片不可或缺的主要設備之一，其中由日本FUJIKOSHI公司生產的SPM-19/23型拋光機和SPEEDFAM公司生產的SPAW50拋光機，在目前國內的單晶硅拋光片制造廠商中得到廣泛使用，該型拋光機采用化學機械拋光方式實現對單晶硅片表面的拋光處理，在工作過程中必須保證化學腐蝕速率與機械去除速率完全匹配，因此拋光液/純水的供應狀態對于單晶硅拋光片（以下簡稱硅片）的產品質量具有極其重要的影響。

拋光硅片生產過程，分為刷布、裝載、拋光液拋光、純水拋光、卸載等五階段，刷布和純水拋光需要純水大流量，裝載和卸載時需要純水小流量，拋光液拋光時需要穩定的拋光液流量，拋光液/純水通過主轉盤中心管向主轉盤持續供應拋光液/純水，此時，一方面要求拋光液/純水以工藝設定的溫度、流量穩定地向主轉盤供應，以保證對硅片表面化學腐蝕作用的均勻性，同時要求拋光液/純水始終保持較高潔凈度，以免對硅片表面造成二次污染或其它損傷。然而在實際運行過程中我們發現，這兩種拋光機的拋光液管路系統都存在以下突出問題：上述兩種拋光機的拋光液/純水管路分別進入主轉盤中心管，當拋光液停止供應后，多個管路、零部件及管件中會積存大量拋光液，隨著時間推移，這部分拋光液逐漸沉積在管壁及零部件、管件內部，形成難以清除的固態結晶體，從而引發一系列故障。

實用新型內容

本實用新型的目的是為解決上述問題，提供一種適用于拋光機的拋光液及純水供應管路。

本實用新型的技術方案是：一種適用于拋光機的拋光液及純水供應管路，包括純水拋光系統和拋光液拋光系統和主管道，所述純水拋光系統包括第一管道和與所述第一管道并聯的第二管道，所述第一管道上設置有大流量氣動閥，所述第二管道上設置有小流量氣動閥，第一管道和第二管道上還分別設置有相配合使用的第一手動調節閥，純水分別通過純水大流量氣動閥和小流量氣動閥匯入設置有第一流量計的第三管道；所述拋光液拋光系統包括第四管道和設置在所述第四管道上的拋光液調節閥和第一單向閥；所述第三管道和第四管道匯入所述主管道，主管道上設置有主氣動閥、第二流量計和第一溫度探頭。

進一步優化，所述第一管道的延伸部一端連接純水水源，并通過設置在延伸部的純水調節閥進行導流和截流。

進一步優化，所述主管道的尾端連接有主轉盤中心。

進一步優化，拋光液拋光時，拋光液經第四管道和主管道進入主轉盤中心。

進一步優化，純水拋光包括純水刷布、純水裝載和純水卸載，純水刷布時，純水經第一管道和第三管道進入主管道并最終流入主轉盤中心，通過大流量氣動閥控制純水流量以實現對主管道進行沖洗；純水裝載和純水卸載時，純水經第二管道和第三管道進入主管道并最終流入主轉盤中心，通過小流量氣動閥控制純水流量以實現對主管道進行沖洗。

進一步優化，所述第三管道上還設置有用于檢測純水溫度的第二溫度探頭和第二單向閥。

進一步優化，所述第一溫度探頭和第二溫度探頭均采用型號為PT100的溫度探頭。

本實用新型的有益效果為：