[發(fā)明專利]大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010569573.1
• 申請日: 2020-06-20
• 公開（公告）號: CN111781702A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪鴻飛;李岳璁;尹小玲;林勝龍;趙治平;楊文冠;劉洪海
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東弘景光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/06;G02B13/18
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁

1.一種大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，沿光軸從物面到像面依次包括：第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡、以及第六透鏡；其特征在于，

所述第一透鏡的物面?zhèn)葹橥姑妫衩鎮(zhèn)葹榘济妫涔饨苟葹樨?fù)；

所述第二透鏡的物面?zhèn)葹榘济妫衩鎮(zhèn)葹橥姑妫涔饨苟葹檎?/p>

所述第三透鏡的物面?zhèn)葹橥姑妫衩鎮(zhèn)葹橥姑妫涔饨苟葹檎?/p>

所述第四透鏡的物面?zhèn)葹榘济妫衩鎮(zhèn)葹榘济妫涔饨苟葹樨?fù)；

所述第五透鏡的像面?zhèn)葹橥姑妫衩鎮(zhèn)葹橥姑妫涔饨苟葹檎?/p>

所述第六透鏡的物面?zhèn)葹橥姑妫衩鎮(zhèn)葹榘济妫涔饨苟葹檎?/p>

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，該光學(xué)系統(tǒng)的各透鏡滿足如下條件：

(1)1.45＜∣f1/f∣＜2.5；

(2)5＜∣f2/f∣；

(3)0.8＜∣f3/f4∣＜1.2；

(4)0.6＜∣f4/f5∣＜0.96；

(5)10＜∣f6/f∣；

其中，f為整個光學(xué)系統(tǒng)的焦距，f1為第一透鏡的焦距，f2為第二透鏡的焦距，f3為第三透鏡的焦距，f4為第四透鏡的焦距，f5為第五透鏡的焦距，f6為第六透鏡的焦距。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，孔徑光闌位于第二透鏡與第三透鏡之間，靠近第三透鏡側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，第一透鏡的材料折射率Nd1、材料阿貝常數(shù)Vd1、焦距f1與系統(tǒng)焦距f之間滿足：1.65Nd11.92，30Vd160，1.45＜∣f1/f∣＜2.5。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，第三透鏡的材料折射率Nd3、材料阿貝常數(shù)Vd3滿足：1.4Nd31.65，50Vd395。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，第二透鏡的材料折射率Nd2、材料阿貝常數(shù)Vd2滿足：1.56Nd21.70，10Vd235。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，第四透鏡的材料折射率Nd4、材料阿貝常數(shù)Vd4滿足：1.56Nd41.70，10Vd435。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，第五透鏡的材料折射率Nd5、材料阿貝常數(shù)Vd5滿足：1.45Nd51.60，35Vd560。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，第六透鏡的材料折射率Nd6、材料阿貝常數(shù)Vd6、焦距f6與系統(tǒng)焦距f之間滿足：1.45Nd61.60，35Vd660，10＜∣f6/f∣。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大光圈超大廣角監(jiān)控光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，光學(xué)總長TTL滿足：10mmTTL15mm。