[實用新型]光學器件表面清潔裝置及掃描檢查系統

有效

• 申請號: 201920671159.4
• 申請日: 2019-05-10
• 公開（公告）號: CN210023081U
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 李柯;許艷偉;孟德芳;葉立超;喻衛豐;胡煜;宗春光;孫尚民
• 申請（專利權）人: 同方威視技術股份有限公司;同方威視科技(北京)有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;G01N21/94
• 代理公司: 11038 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 張文超;顏鏑

1.一種光學器件表面清潔裝置，其特征在于，包括：

吹氣部件(5)，所述吹氣部件(5)上設有吹氣口(53)，所述吹氣口(53)朝向光學器件的待清潔表面(6)設置；以及

氣源組件，被配置為向所述吹氣部件(5)提供壓縮氣體，以使壓縮氣體通過所述吹氣口(53)吹向所述待清潔表面(6)進行除污。

2.根據權利要求1所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，所述吹氣部件(5)的安裝方位被配置為使所述吹氣口(53)導出的氣流方向相對于所述待清潔表面(6)傾斜。

3.根據權利要求1所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，所述吹氣部件(5)上還設有進氣口(52)，所述進氣口(52)上連接有進氣管(55)，在所述吹氣部件(5)安裝的狀態下，所述進氣管(55)平直延伸。

4.根據權利要求1所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，所述氣源組件與所述吹氣部件(5)之間的氣路上設有通斷閥(4)，以在接通狀態下開啟除污，并在斷開狀態下停止除污。

5.根據權利要求4所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，還包括定時器件，被配置為按照預設的時間間隔使所述通斷閥(4)切換至接通狀態。

6.根據權利要求4所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，還包括控制部件，所述光學器件具有自檢測功能，被配置為在檢測到待清潔表面(6)的粘污程度超過閾值時發出提示信號，所述控制部件被配置為在接收到所述光學器件發出的提示信號時使所述通斷閥(4)切換至接通狀態。

7.根據權利要求4所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，還包括圖像獲取部件和控制部件，所述圖像獲取部件被配置為獲取所述待清潔表面(6)的圖像，所述控制部件被配置為根據獲得的圖像判斷所述待清潔表面(6)的粘污程度，并在所述待清潔表面(6)的粘污程度超過閾值時使所述通斷閥(4)切換至接通狀態。

8.根據權利要求1所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，所述氣源組件包括動力部件、空氣壓縮部件(1)和儲氣容器(2)，所述動力部件用于為所述空氣壓縮部件(1)的工作提供動力，所述空氣壓縮部件(1)用于產生壓縮氣體，所述儲氣容器(2)用于存儲壓縮氣體。

9.根據權利要求8所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，還包括壓力檢測部件(3)，用于檢測所述儲氣容器(2)內的壓力，以便在所述儲氣容器(2)內的壓力低于預設壓力時開啟所述空氣壓縮部件(1)。

10.根據權利要求1所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，所述吹氣部件(5)包括殼體(51)，所述殼體(51)具有內腔，所述殼體(51)上設有進氣口(52)和多個所述吹氣口(53)，所述進氣口(52)和各個所述吹氣口(53)均與所述內腔連通。

11.根據權利要求10所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，各個所述吹氣口(53)的總面積小于所述進氣口(52)的面積。

12.根據權利要求10所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，各個所述吹氣口(53)位于所述殼體(51)上的同一壁面上。

13.根據權利要求10所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，所述殼體(51)內設有平滑的導流面(54)，所述導流面(54)的形狀被配置為能夠減小氣流從所述進氣口(52)流動至所述吹氣口(53)受到的阻力。

14.根據權利要求13所述的光學器件表面清潔裝置，其特征在于，所述進氣口(52)和所述吹氣口(53)設在所述殼體(51)相鄰的壁面上，所述導流面(54)與所述進氣口(52)正對設置，且所述導流面(54)沿所述吹氣口(53)垂直向內的方向朝向靠近所述進氣口(52)所在壁面傾斜。