[實用新型]太陽能電池及太陽能電池組件有效
| 申請號: | 201920574737.2 | 申請日: | 2019-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN210379061U | 公開(公告)日: | 2020-04-21 |
| 發明(設計)人: | 李剛;陳宗洋;賴輝龍;黃健航;薛雪;黃亮 | 申請(專利權)人: | 北京漢能光伏技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/068 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 101499 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 組件 | ||
1.一種太陽能電池,其特征在于,所述太陽能電池(100)包括襯底(110)及設于所述襯底(110)表面的太陽能電池芯片(140),所述襯底(110)包括基板(112)及設于所述基板(112)表面的二氧化硅層(114),所述太陽能電池芯片(140)設于所述二氧化硅層(114)的表面,所述二氧化硅層(114)的厚度為27nm~440nm。
2.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于,所述太陽能電池芯片(140)為薄膜硅太陽能電池芯片。
3.根據權利要求2所述的太陽能電池,其特征在于,所述太陽能電池芯片(140)包括第一透明導電層(141)、非晶硅薄膜層(143)及第二透明導電層(145)。
4.根據權利要求3所述的太陽能電池,其特征在于,所述第一透明導電層(141)為TCO層、ITO層、AZO層或ZnO層;及/或
所述第二透明導電層(145)為TCO層、ITO層、AZO層或ZnO層。
5.根據權利要求3所述的太陽能電池,其特征在于,所述非晶硅薄膜層(143)的厚度為150nm~180nm。
6.根據權利要求2所述的太陽能電池,其特征在于,所述太陽能芯片包括第一透明導電層、非晶硅薄膜層、微晶硅薄膜層及第二透明導電層。
7.根據權利要求6所述的太陽能電池,其特征在于,所述第一透明導電層為TCO層、ITO層、AZO層或ZnO層;及/或
所述第二透明導電層為TCO層、ITO層、AZO層或ZnO層。
8.根據權利要求6所述的太陽能電池,其特征在于,所述非晶硅薄膜層的厚度為150nm~180nm,所述微晶硅薄膜層的厚度為780nm~840nm。
9.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于,
所述二氧化硅層(114)的厚度為27nm~53nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為53nm~73nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為73nm~97nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為97nm~100nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為100nm~120nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為120nm~130nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為130nm~150nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為150nm~160nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為160nm~170nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為170nm~200nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為200nm~240nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為240nm~250nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為250nm~280nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為280nm~310nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為310nm~330nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為330nm~370nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為370nm~400nm;或
所述二氧化硅層(114)的厚度為400nm~440nm。
10.一種太陽能電池組件,其特征在于,包括權利要求1~9任一項所述的太陽能電池(100)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





