[實用新型]真空干燥裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920302302.2
• 申請日: 2019-03-11
• 公開（公告）號: CN210101058U
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 史橫舟;孫雅娟;王允軍
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州星爍納米科技有限公司
• 主分類號: B41J11/00
• 分類號: B41J11/00;H01L51/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本申請?zhí)峁┝艘环N真空干燥裝置，該真空干燥裝置包括真空腔室及位于真空腔室內(nèi)部的支撐件，所述真空腔室包括抽氣口，所述抽氣口與真空腔室連通，所述抽氣口分別位于真空腔室的側(cè)部及底部，用于抽取所述真空腔室內(nèi)部的氣體或向所述真空腔室內(nèi)部填充氣體；所述支撐件位于真空腔室的下方，用于承載表面涂覆有功能墨水的基板。該真空干燥裝置設(shè)有多個抽氣口，分別位于真空腔室的側(cè)部及底部，有利于在抽氣干燥過程中均衡基板中部區(qū)域與邊緣區(qū)域的氣流，促使基板各處溶劑揮發(fā)速度穩(wěn)定，提高了成膜均勻性。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種真空干燥裝置。

背景技術(shù)

在顯示技術(shù)領(lǐng)域中，量子點由于具有色域?qū)挕⑸兌雀?、發(fā)光波長可調(diào)、易合成加工等優(yōu)異的光學性質(zhì)和電學性質(zhì)，被廣泛應用于量子點發(fā)光二極管(QLED)等光電器件中。

噴墨打印技術(shù)被認為是降低大尺寸QLED顯示成本的有效方式。在QLED的打印工藝中，將器件功能材料的墨滴打印至像素界定層指定的像素坑后，需要對打印后的濕膜進行真空干燥以除去膜層中的溶劑。真空干燥裝置的結(jié)構(gòu)設(shè)計會直接影響膜層的厚度均勻性。如果厚度均勻性差，則容易導致器件發(fā)光不均勻，或者存在漏電流，影響器件性能。因此，需要提供新型的真空干燥裝置以滿足大尺寸基板的干燥要求。

實用新型內(nèi)容

針對上述技術(shù)問題，本申請?zhí)峁┮环N真空干燥裝置。

本申請?zhí)峁┑恼婵崭稍镅b置包括真空腔室及位于真空腔室內(nèi)部的支撐件，所述真空腔室包括抽氣口，所述抽氣口與真空腔室連通，所述抽氣口分別位于真空腔室的側(cè)部及底部，用于抽取所述真空腔室內(nèi)部的氣體或向所述真空腔室內(nèi)部填充氣體；所述支撐件位于真空腔室的下方，用于承載表面涂覆有功能墨水的基板。

進一步地，所述真空腔室的側(cè)部設(shè)有一組抽氣口，所述一組為兩個或多個，所述真空腔室的底部設(shè)有單個抽氣口。

進一步地，所述側(cè)部的各抽氣口高度相等，關(guān)于真空腔室的垂直中心軸線對稱分布。

進一步地，所述側(cè)部抽氣口的高度低于支撐件的高度。

進一步地，所述側(cè)部抽氣口與基板之間的水平距離不少于抽氣口的內(nèi)徑。

進一步地，所述底部的單個抽氣口設(shè)于底部中心位置。

進一步地，所述抽氣口均設(shè)有相應控制閥。

進一步地，所述支撐件包括支撐板和多個支撐柱，所述支撐柱一端安裝在真空腔室的底部，另一端連接于支撐板，所述支撐板承載表面涂覆有功能墨水的基板。

進一步地，所述支撐件的高度可調(diào)節(jié)，所述支撐件的高度占所述真空腔室高度的1/5至4/5。

進一步地，所述真空干燥裝置還包括真空度檢測元件。

有益效果：本申請?zhí)峁┝艘环N新型真空干燥裝置，滿足基于噴墨打印的大尺寸基板的干燥要求。該真空干燥裝置設(shè)有多個抽氣口，分別位于真空腔室的側(cè)部及底部，有利于在抽氣干燥過程中均衡基板中部區(qū)域與邊緣區(qū)域的氣流，促使基板各處溶劑揮發(fā)速度穩(wěn)定，提高了成膜均勻性。

附圖說明

圖1為本申請中一個實施方式的真空干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖2為本申請中一個實施方式的側(cè)部抽氣口的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖3為本申請中一個實施方式的側(cè)部抽氣口的結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖4為本申請中一個實施方式的側(cè)部抽氣口的結(jié)構(gòu)示意圖之三；

圖5為本申請中一個實施方式的真空干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖6為本申請中一個實施方式的真空干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖之三。