[實用新型]一種晶片清洗盆

有效

• 申請號: 201920104495.0
• 申請日: 2019-01-22
• 公開（公告）號: CN209736195U
• 公開（公告）日: 2019-12-06
• 發明（設計）人: 李杰;葛林五;葛林新;丁高生;陳景韶
• 申請（專利權）人: 上海提牛機電設備有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B13/00
• 代理公司: 31105 上海智力專利商標事務所(普通合伙)
• 代理人: 周濤<國際申請>=<國際公布>=<進入國

1.一種晶片清洗盆，其特征在于，該清洗盆包括：

缽狀主體（1），所述缽狀主體（1）的內部底面中心位置設有凸起結構（11），所述凸起結構（11）的中部設置第一通孔（111），所述第一通孔（111）的邊緣設置有向上延伸的環形件（112），所述缽狀主體（1）的底部連通有抽氣管道（14）；

固定模組（2），所述固定模組（2）的第一端穿過所述第一通孔（111）用來固定晶片（9），所述固定模組（2）的第一端設置有向下延伸的環形扣（21）；

升降模組（3），所述升降模組（3）的移動端與所述固定模組（2）的第二端固定連接；

其中，

所述環形扣（21）的直徑大于所述環形件（112）的直徑，所述升降模組（3）處于下降狀態時，所述環形扣（21）罩設在所述環形件（112）上，所述環形扣的下邊沿（211）高度小于所述環形件的上邊沿（1121）高度。

2.根據權利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述抽氣管道（14）的數量為2個，所述抽氣管道（14）對稱分布在所述缽狀主體（1）的兩側。

3.根據權利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述缽狀主體（1）的內部底面高度自中心位置向邊沿位置按照預定傾斜角度下降。

4.根據權利要求3所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述預定傾斜角度為1-8°。

5.根據權利要求4所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述預定傾斜角度為3-5°。

6.根據權利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述缽狀主體（1）的側壁包括在下設置的基座（12）、在上設置的罩體（13），所述基座（12）為圓柱殼結構，所述罩體（13）與所述基座（12）在連接處構成階梯互卡結構。

7.根據權利要求6所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述基座（12）為PVC材質。

8.根據權利要求6所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述罩體（13）為PP材質。

9.根據權利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述固定模組（2）包括：

轉軸（22），所述轉軸（22）為圓柱殼結構，所述轉軸（22）的側壁設置有貫穿孔（221），所述貫穿孔（221）與所述轉軸（22）的內腔相連通，所述轉軸（22）的底部與電機（23）轉子軸連接，使得所述轉軸（22）能夠繞自軸旋轉，所述環形扣（21）固定在所述轉軸（22）的頂部；

中間層（24），所述中間層（24）套設在所述轉軸（22）上，所述中間層（24）與所述轉軸（22）之間的間隙距離為預定值，所述中間層（24）的兩端固定有軸承，所處軸承的內圈與所述轉軸（22）緊配合，所述中間層（24）的內側壁設置有凹入的環形腔（241），所述環形腔（241）與所述貫穿孔（221）相連通，所述中間層（24）上開設有第二通孔（242），所述第二通孔（242）的一端與所述中間層（24）的外部空間連通，所述第二通孔（242）的另一端與所述環形腔（241）相連通；以及

外殼（25），所述外殼（25）套設在所述中間層（24）上，所述外殼（25）上設置有抽氣孔（251），所述抽氣孔（251）的一端與所述第二通孔（242）相連通，所述抽氣孔（251）的另一端與外部的抽氣裝置連接；

其中，

所述轉軸（22）的頂部放置所述晶片（9），通過在所述轉軸（22）內抽真空固定所述晶片（9）。