[發明專利]基于多尺度Hessian矩陣濾波的陶瓷瓦表面裂紋檢測方法在審
| 申請號: | 201911421605.7 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN111179260A | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發明(設計)人: | 曾曙光;左肖雄;鄭勝;周飄;李強;羅志會 | 申請(專利權)人: | 三峽大學 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G06T5/00 |
| 代理公司: | 宜昌市三峽專利事務所 42103 | 代理人: | 吳思高 |
| 地址: | 443002 *** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 尺度 hessian 矩陣 濾波 陶瓷 表面 裂紋 檢測 方法 | ||
1.基于多尺度Hessian矩陣濾波的陶瓷瓦表面裂紋檢測方法,其特征在于包括:
步驟1:圖像預處理步驟:用于對原圖像去噪,削弱噪聲和花紋背干擾,增加缺陷對比度;
步驟2:多尺度Hessian矩陣濾波裂紋檢測步驟:用于排除紋理噪聲的干擾,最終提取出裂紋特征;
步驟3:提取裂紋參數步驟:通過二值化方法確定檢測裂紋缺陷的閾值范圍。
2.根據權利要求1所述基于多尺度Hessian矩陣濾波的陶瓷瓦表面裂紋檢測方法,其特征在于:所述圖像預處理步驟中:
在圖像預處理過程中,對于二維輸入圖像I(x,y),它的高斯尺度空間Iσ(x,y)由圖像I(x,y)與高斯函數G(x,y;σ)卷積得到,表達式為:
其中,高斯函數G(x,y;σ)的表達式為:
其中,I(x,y)表示圖像灰度矩陣;σ表示高斯函數G(x,y;σ)的標準差,即空間尺度因子,通過改變σ的大小,實現對不同尺度裂紋的檢測;當σ=0時,I0(x,y)=I(x,y),此時的尺度空間即原圖像;當尺度參數σ增大時,高斯濾波器也逐漸增大,圖像細節結構逐漸消失,圖像越來越模糊,裂紋的細節信息基本消失,與背景區分度較小,能夠視為裂紋有效信息的最大尺度,做差分后,即:Iσ(σ=1)-Iσ(σ=15)。
3.根據權利要求1所述基于多尺度Hessian矩陣濾波的陶瓷瓦表面裂紋檢測方法,其特征在于:所述多尺度Hessian矩陣濾波裂紋檢測步驟中:
Hessian矩陣通過二階導數描述圖像中每個像素點的局部灰度梯度變化,從而進一步增強陶瓷瓦圖像中的線狀裂紋區域,對于二維輸入圖像I(x,y),在(x,y)像素點處的Hessian矩陣為:
其中,圖像在像素點(x,y)出的二階導數為Ixx,Ixy,Iyx,Iyy;二階導數可以由圖像與高斯函數卷積獲得,例如在像素點(x,y)處:
上式中的Hessian矩陣由兩個特征值λ1和λ2,|λ1|≥|λ2|,以及對應的特征向量表示;若在像素點(x,y)附近區域的結構為線狀結構,則|λ1||λ2|≈0;對于陶瓷瓦圖像,定義裂紋相似函數:
其中,δ、α用于控制K1與K2之間的權值,一般取δ=0.5,圖像灰度范圍決定了α的取值,一般為Hessian矩陣最大范數的1/2;氣泡狀結構與線狀結構根據K1取值區分,當像素的局部結構為線狀結構時,K1=0;K2用來表示目標與背景間的對比度,K2越大,對比度越大;uσ(x,y)∈(0.1),當像素點(x,y)為線狀結構時,uσ(x,y)取值很大,為氣泡狀結構時,uσ(x,y)≈0;
當高斯函數的尺度空間因子σ與裂紋寬度相似時,濾波器uσ(x,y)的響應最大,計算不同σ下裂紋相似函數值,取響應最大值作為最終裂紋增強圖像輸出:
上式中,σmax與σmin是尺度的最大值與最小值,它們的取值覆蓋所有裂紋寬度即可,通過實驗設定尺度因子σ的范圍為[1,15],步長為2,多尺度Hessian矩陣濾波后得到裂紋增強圖像,陶瓷瓦裂紋特征表現為連通的線狀結構,與花紋等噪聲區分明顯,再使用圖像二值化和開運算操作對裂紋增強圖像進行處理。
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