[發(fā)明專(zhuān)利]通信裝置、介質(zhì)波導(dǎo)濾波器及其制作方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911421155.1
• 申請(qǐng)日: 2019-12-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111162352A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張曙光;秦小勇;邱*
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 廣東奧迪威傳感科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01P1/20
• 分類(lèi)號(hào): H01P1/20;H01P11/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 米晶晶

1.一種介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，包括：

介質(zhì)塊，所述介質(zhì)塊的表面上設(shè)有隔離槽、耦合輸入孔、耦合輸出孔與切割槽，所述耦合輸入孔與所述耦合輸出孔分別設(shè)于所述隔離槽的兩側(cè)，所述切割槽設(shè)置于所述介質(zhì)塊上最靠近于所述隔離槽的端部的端面上，所述切割槽與所述隔離槽相對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述隔離槽與所述切割槽均由所述介質(zhì)塊的其中一表面貫穿延伸到所述介質(zhì)塊的另一表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，所述隔離槽與所述切割槽相互隔離；所述介質(zhì)塊的相對(duì)兩個(gè)端面之間的距離記為介質(zhì)塊的寬度W，所述隔離槽的端面與所述介質(zhì)塊上最靠近于所述隔離槽的端部的端面之間的距離記為H，HW*5％。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，所述切割槽的槽深記為S，S0.1mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，所述切割槽的槽口形狀為梯形、矩形或半圓形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，所述隔離槽與所述切割槽相互連通。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，所述隔離槽的槽壁上設(shè)有凸部。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，所述隔離槽的兩個(gè)相對(duì)槽壁上均設(shè)有凸部，兩個(gè)所述凸部之間的間距小于所述隔離槽的兩個(gè)相對(duì)槽壁之間的間距；所述凸部為梯形凸部、弧形凸部或矩形凸部。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，其特征在于，所述介質(zhì)塊的表面、所述隔離槽與所述切割槽的槽壁上均設(shè)有金屬層，所述耦合輸入孔與所述耦合輸出孔的孔壁上均設(shè)有金屬層。

9.一種介質(zhì)波導(dǎo)濾波器的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

介質(zhì)塊在燒結(jié)成型之前加工出隔離槽、耦合輸入孔及耦合輸出孔；

介質(zhì)塊在燒結(jié)成型之后對(duì)所述介質(zhì)塊上最靠近于所述隔離槽的端部的端面上進(jìn)行切割處理，并在所述介質(zhì)塊上最靠近于所述隔離槽的端部的端面上切割形成與所述隔離槽相應(yīng)的切割槽。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器的制作方法，其特征在于，還包括如下步驟：

在所述介質(zhì)塊的端面上切割處理得到所述切割槽之后，對(duì)所述介質(zhì)塊進(jìn)行表面金屬化處理；

對(duì)表面金屬化處理的介質(zhì)塊進(jìn)行調(diào)試處理。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器的制作方法，其特征在于，所述隔離槽與所述切割槽相互隔離；所述介質(zhì)塊的相對(duì)兩個(gè)端面之間的距離記為介質(zhì)塊的寬度W，所述隔離槽的端面與所述介質(zhì)塊上最靠近于所述隔離槽的端部的端面之間的距離記為H，HW*5％；所述切割槽的槽深記為S，S0.1mm。

12.一種通信裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至11任意一項(xiàng)所述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器。