[發(fā)明專利]一種用于720度環(huán)境探測的攝像模組標(biāo)定方法及設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911337902.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111080718A | 公開(公告)日: | 2020-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 常嘉義;梁艷菊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中科院微電子研究所昆山分所 |
| 主分類號(hào): | G06T7/80 | 分類號(hào): | G06T7/80 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王云曉 |
| 地址: | 215347 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 720 環(huán)境 探測 攝像 模組 標(biāo)定 方法 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種用于720度環(huán)境探測的攝像模組標(biāo)定方法,會(huì)將攝像模組置于標(biāo)定工具箱內(nèi);攝像模組包括六個(gè)攝像頭,六個(gè)攝像頭呈立方體分布;標(biāo)定工具箱呈立方體形狀,標(biāo)定工具箱六個(gè)內(nèi)壁均分別貼合有標(biāo)定參照?qǐng)D,標(biāo)定參照?qǐng)D包括特征點(diǎn);攝像頭與標(biāo)定參照?qǐng)D一一對(duì)應(yīng)。之后會(huì)通過像頭拍攝對(duì)應(yīng)的標(biāo)定參照?qǐng)D,計(jì)算六個(gè)攝像頭的內(nèi)參數(shù)以及外參數(shù)。攝像模組通常具有六個(gè)攝像頭,在標(biāo)定時(shí),通過標(biāo)定工具箱可以輕易的將六個(gè)標(biāo)定參照?qǐng)D中的特征點(diǎn)統(tǒng)一在同一個(gè)世界坐標(biāo)系中。并且通過標(biāo)定工具箱,可以使六個(gè)攝像頭同時(shí)生成標(biāo)定圖像,以有利于對(duì)用于720度環(huán)境探測的攝像模組進(jìn)行高效的標(biāo)定。本發(fā)明還提供了一種設(shè)備,同樣具有上述有益效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及相機(jī)標(biāo)定技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種用于720度環(huán)境探測的攝像模組標(biāo)定方法以及一種用于720度環(huán)境探測的攝像模組標(biāo)定設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著近年來科技不斷的進(jìn)步以及社會(huì)不斷的發(fā)展,全景圖像映射技術(shù)得到了極大的發(fā)展。全景圖像映射可以將周圍環(huán)境的圖像以一個(gè)立體的方式呈現(xiàn),通常是將多個(gè)攝像頭獲取的圖像進(jìn)行拼接,以形成全景圖像。而在進(jìn)行圖像拼接之前,通常需要先對(duì)攝像模組中的各個(gè)攝像頭進(jìn)行標(biāo)定,以確定攝像頭的內(nèi)參數(shù)以及外參數(shù);在進(jìn)行圖像拼接時(shí),需要依據(jù)攝像模組中各個(gè)攝像頭的內(nèi)參數(shù)和外參數(shù)進(jìn)行拼接。
而在現(xiàn)有技術(shù)中,對(duì)于需要進(jìn)行環(huán)境探測的攝像模組,通常是單獨(dú)對(duì)每個(gè)攝像頭進(jìn)行標(biāo)定,以計(jì)算各個(gè)攝像頭的內(nèi)外參數(shù)。單獨(dú)進(jìn)行標(biāo)定的過程非常繁瑣,所以如何對(duì)用于環(huán)境探測的攝像模組進(jìn)行高效的標(biāo)定是本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于720度環(huán)境探測的攝像模組標(biāo)定方法,可以對(duì)用于720度環(huán)境探測的攝像模組進(jìn)行高效的標(biāo)定;本發(fā)明還提供了一種用于720度環(huán)境探測的攝像模組標(biāo)定設(shè)備,可以對(duì)用于720度環(huán)境探測的攝像模組進(jìn)行高效的標(biāo)定。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種用于720度環(huán)境探測的攝像模組標(biāo)定方法,包括:
將攝像模組置于標(biāo)定工具箱內(nèi);所述攝像模組包括六個(gè)攝像頭,六個(gè)所述攝像頭呈立方體分布;所述標(biāo)定工具箱呈立方體,所述標(biāo)定工具箱六個(gè)內(nèi)壁均分別貼合有標(biāo)定參照?qǐng)D,所述標(biāo)定參照?qǐng)D包括特征點(diǎn);所述攝像頭與所述標(biāo)定參照?qǐng)D一一對(duì)應(yīng);
通過所述攝像頭拍攝對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)定參照?qǐng)D,以生成標(biāo)定圖像;
計(jì)算所述標(biāo)定圖像內(nèi)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo);
根據(jù)所述標(biāo)定參照?qǐng)D內(nèi)特征點(diǎn)的世界坐標(biāo),以及所述標(biāo)定圖像內(nèi)對(duì)應(yīng)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo),計(jì)算所述攝像模組中六個(gè)所述攝像頭的內(nèi)參數(shù)以及外參數(shù)。
可選的,在所述計(jì)算所述標(biāo)定圖像內(nèi)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo)之前,所述方法還包括:
檢測出所述標(biāo)定圖像中的特征點(diǎn);
在所述根據(jù)所述標(biāo)定參照?qǐng)D內(nèi)特征點(diǎn)的世界坐標(biāo),以及所述標(biāo)定圖像內(nèi)對(duì)應(yīng)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo),計(jì)算所述攝像模組中六個(gè)所述攝像頭的內(nèi)參數(shù)以及外參數(shù)之前,所述方法還包括:
以所述標(biāo)定工具箱內(nèi)中心為原點(diǎn),測量所述標(biāo)定參照?qǐng)D中所述特征點(diǎn)的世界坐標(biāo)。
可選的,所述標(biāo)定參照?qǐng)D為棋盤格參照?qǐng)D。
可選的,所述計(jì)算所述標(biāo)定圖像內(nèi)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo)包括:
通過棋盤格特征檢測算法計(jì)算所述標(biāo)定圖像內(nèi)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo)。
可選的,所述根據(jù)所述標(biāo)定參照?qǐng)D內(nèi)特征點(diǎn)的世界坐標(biāo),以及所述標(biāo)定圖像內(nèi)對(duì)應(yīng)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo),計(jì)算所述攝像模組中六個(gè)所述攝像頭的內(nèi)參數(shù)以及外參數(shù)包括:
通過張氏標(biāo)定算法,根據(jù)所述標(biāo)定參照?qǐng)D內(nèi)特征點(diǎn)的世界坐標(biāo),以及所述標(biāo)定圖像內(nèi)對(duì)應(yīng)特征點(diǎn)的圖像坐標(biāo),計(jì)算所述攝像模組中六個(gè)所述攝像頭的內(nèi)參數(shù);
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中科院微電子研究所昆山分所,未經(jīng)中科院微電子研究所昆山分所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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