[發(fā)明專(zhuān)利]物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911336622.0
• 申請(qǐng)日: 2019-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111073014A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林群
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 南京福仕保新材料有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C08J7/048
• 分類(lèi)號(hào): C08J7/048;C08L67/04;C08L69/00;C08L29/04;C08L67/02;C08L23/02;C08L27/06;C08L3/02;C08L101/00
• 代理公司: 南京蘇科專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 32102
• 代理人: 徐振興;姚姣陽(yáng)

1.一種物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜，其特征在于，包括可降解薄膜，物理沉積在所述可降解薄膜表面的無(wú)機(jī)納米保護(hù)層，以及涂敷并光固化在所述無(wú)機(jī)納米保護(hù)層表面的丙烯酸樹(shù)脂。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜，其特征在于，可降解材料薄膜，其材料選自PLA, PHA，PBAS，PPC，PVA，PHB，PBS，以及生物工程塑料、生物通用塑料(聚烯烴和聚氯乙烯)淀粉基等。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜，其特征在于，可降解材料薄膜，其選自單層或者多層混合降解材料結(jié)構(gòu)，其厚度范圍在5微米到500微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜，其特征在于，無(wú)機(jī)納米保護(hù)層，其材料可以選自金屬，金屬氧化物和無(wú)機(jī)納米材料，厚度在10-500納米。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜，其特征在于，無(wú)機(jī)納米保護(hù)層可以是單一納米材料層，也可以是多種納米材料混合層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜，其特征在于，所述的UV固化丙烯酸樹(shù)脂層，厚度在0.1-50微米之間。

7.一種物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜的制備工藝，其特征在于，包括：在超薄的可降解薄膜上進(jìn)行表面處理，再通過(guò)物理沉積技術(shù)沉積納米級(jí)別的致密阻擋層，其后可以再在上部鍍膜UV固化丙烯酸樹(shù)脂，UV光照后完成固化保護(hù)，或者不需要此固化層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜的制備工藝，其特征在于，可降解材料薄膜表面處理，可以選自，臭氧，等離子體，化學(xué)，電暈等方法。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜的制備工藝，其特征在于，物理沉積技術(shù)，可以是RF，DC或者磁控濺射，真空蒸鍍，低壓蒸鍍，電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等方法完成。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的物理沉積增強(qiáng)水氧阻隔性能的可降解薄膜的制備工藝，其特征在于，物理沉積技術(shù)，可降解薄膜溫度可以保持在室溫到80攝氏度之內(nèi)，鍍膜速率為1-50納米/分鐘。