[發(fā)明專利]電樞的骨架構(gòu)造

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911335867.1
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN111509891A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 堀內(nèi)學(xué);相良弘樹;北島純;清水麻衣;松下孝
• 申請（專利權(quán)）人: 山洋電氣株式會社
• 主分類號: H02K3/34
• 分類號: H02K3/34;H02K3/46
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 李成必;李雪春

本發(fā)明提供一種電樞的骨架構(gòu)造，是槽數(shù)量為6N(N是自然數(shù))且每1相的繞組數(shù)量為3N的3相馬達(dá)的電樞的骨架構(gòu)造，具有插入了纏繞有繞組的卷線骨架的主磁極以及插入了沒有纏繞繞組的空骨架的輔助磁極，所述主磁極與所述輔助磁極相對于旋轉(zhuǎn)軸配置在圓周方向上，并且在所述主磁極與所述輔助磁極之間形成的槽的外周側(cè)與內(nèi)周側(cè)分別形成有所述空骨架和所述卷線骨架接觸的抵接部。

相關(guān)申請的交叉參考

本申請基于2018年12月25日向日本特許廳提交的日本專利申請第2018-240519號并要求該日本專利申請的優(yōu)先權(quán)，因此將所述日本專利申請的全部內(nèi)容以引用的方式并入本文。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電樞的骨架構(gòu)造。

背景技術(shù)

如圖1所示，已知有如下技術(shù)：在集中卷線的電樞200中，為了在繞組230與鐵芯210之間電氣絕緣，使用繞組骨架(卷線骨架)220、250。例如，在下述日本專利公開公報特開2015-211563號中，像圖1那樣，在繞組骨架220、250的底部，使兩個骨架220、250重合，配置顎部225。這樣一來，在具有繞組骨架220、250的集中卷線的旋轉(zhuǎn)電樞200的定子上，繞組230與鐵芯210的絕緣距離變長。即使是在重合的顎部225附近，也能夠纏繞定子繞組230。因此，能夠提升在槽250內(nèi)部的繞組230的占有率。這樣一來，在日本專利公開公報特開2015-211563號的技術(shù)中，在槽250的空間中能夠配置繞組230，能夠空間效率良好地配置繞組230。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種電樞的骨架構(gòu)造，是槽數(shù)量為6N(N是自然數(shù))且每1相的繞組數(shù)量為3N的3相馬達(dá)的電樞的骨架構(gòu)造，其具有：主磁極，纏繞有繞組的卷線骨架插入所述主磁極；以及輔助磁極，沒有纏繞繞組的空骨架插入所述輔助磁極，所述主磁極與所述輔助磁極相對于旋轉(zhuǎn)軸配置在圓周方向上，在所述主磁極與所述輔助磁極之間形成的槽的外周側(cè)與內(nèi)周側(cè)分別形成有所述空骨架和所述卷線骨架接觸的抵接部。

附圖說明

圖1是表示在日本專利公開公報特開2015-211563號中記載的電樞的骨架構(gòu)造的一個例子的圖。

圖2是表示本發(fā)明的實施方式的電樞的旋轉(zhuǎn)軸方向的斷面構(gòu)造的一個例子的圖，并且是表示了繞組的圖。

圖3A是表示本實施方式的空骨架立體圖，圖3B是表示空骨架的側(cè)面圖。

圖3C到圖3E是表示在空骨架上形成有槽或孔的構(gòu)造的一個例子的側(cè)面圖。

圖4A是表示鐵芯的立體圖，圖4B是表示本實施方式的電樞安裝構(gòu)造的一個例子的立體圖。

圖5是表示本實施方式的電樞磁軛安裝構(gòu)造的一個例子的立體圖。

圖6A是在本實施方式的電樞磁軛安裝構(gòu)造中組裝了印刷基板的印刷基板安裝構(gòu)造的立體圖，圖6B是斷面圖。

圖7A、7B是表示將臺座部安裝在磁軛上的構(gòu)成的側(cè)面圖。

圖8是表示從圖7A的狀態(tài)進(jìn)行模型成型的構(gòu)造的斷面圖。

實施方式

在下面的詳細(xì)說明中，出于說明的目的，為了提供對所公開的實施方式的徹底的理解，提出了許多具體的細(xì)節(jié)。然而，顯然可以在沒有這些具體細(xì)節(jié)的前提下實施一個或更多的實施方式。在其它的情況下，為了簡化制圖，示意性地示出了公知的結(jié)構(gòu)和裝置。

但是，如圖1所示，若僅配置卷線骨架，則相鄰的繞組間的絕緣性會劣化。

本發(fā)明的目的在于提供提升絕緣性的電樞的骨架構(gòu)造。