[發明專利]一種基于光學相干層析成像系統的密封性檢測方法和終端

有效

• 申請號: 201911323981.2
• 申請日: 2019-12-20
• 公開（公告）號: CN110967154B
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發明（設計）人: 蘇勝飛
• 申請（專利權）人: 深圳市太赫茲科技創新研究院;深圳市重投華訊太赫茲科技有限公司
• 主分類號: G01M3/38
• 分類號: G01M3/38
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 葉思

1.一種基于光學相干層析成像系統的密封性檢測方法，其特征在于，所述密封性檢測方法包括：

獲取利用所述光學相干層析成像系統采集的待測物品外表面的干涉信號；

對所述干涉信號進行處理，得到所述待測物品外表面的結構圖像，并對所述結構圖像進行密封性分析，判斷所述待測物品是否為密封性良好的物品；

所述光學相干層析成像系統包括：光源、耦合器、參考臂、樣品臂和信號采集設備、用于放置所述待測物品的導軌；所述光源，用于發射寬帶光；所述耦合器用于將所述寬帶光分束，得到參考光和樣品光；

所述參考臂包括：第一準直透鏡以及n個參考反射鏡；所述樣品臂包括：n個樣品反射鏡組；所述導軌中的待測物品沿 導軌的第一位置依次移動到導軌的第n位置；所述n個樣品反射鏡組分別位于所述導軌的不同方向；n為大于或等于2的整數；

所述參考光經所述第一準直透鏡準直后，經所述n個參考反射鏡分別進行反射得到n個參考反射光，并且所述n個參考反射光依次射入所述耦合器；

所述樣品光經所述n個樣品反射鏡組分別準直并聚焦后，依次射向位于所述導軌的第一位置到第n位置的待測物品，得到n個樣品反射光，所述n個樣品反射光經所述n個樣品反射鏡組射入所述耦合器，并分別與所述耦合器中的n個參考反射光干涉，得到n路包含同一待測物品不同方向的光譜信息的干涉光；

所述信號采集設備用于探測所述干涉光，得到所述待測物品外表面的干涉信號。

2.如權利要求1所述的密封性檢測方法，其特征在于，所述對所述結構圖像進行密封性分析，判斷所述待測物品是否為密封性良好的物品，包括：

將所述結構圖像輸入預設的分類器，由所述預設的分類器輸出所述待測物品是否為密封性良好的物品的分析結果。

3.如權利要求1所述的密封性檢測方法，其特征在于，所述導軌設置有待測物品傳送裝置，所述待測物品傳送裝置用于帶動所述待測物品依次經過所述導軌中的第一位置到第n位置；并在所述信號采集設備采集到所述待測物品的第n干涉光之后，帶動下一個待測物品依次經過所述導軌的第一位置到第n位置。

4.一種基于光學相干層析成像系統的密封性檢測裝置，其特征在于，所述密封性檢測裝置包括：

獲取單元，用于獲取利用所述光學相干層析成像系統采集的待測物品外表面的干涉信號；

判斷單元，用于對所述干涉信號進行處理，得到所述待測物品的結構圖像，并對所述結構圖像進行密封性分析，判斷所述待測物品是否為密封性良好的物品；

所述光學相干層析成像系統包括：光源、耦合器、參考臂、樣品臂和信號采集設備、用于放置所述待測物品的導軌；所述光源，用于發射寬帶光；所述耦合器用于將所述寬帶光分束，得到參考光和樣品光；

所述參考臂包括：第一準直透鏡以及n個參考反射鏡；所述樣品臂包括：n個樣品反射鏡組；所述導軌中的待測物品沿 導軌的第一位置依次移動到導軌的第n位置；所述n個樣品反射鏡組分別位于所述導軌的不同方向；n為大于或等于2的整數；

所述參考光經所述第一準直透鏡準直后，經所述n個參考反射鏡分別進行反射得到n個參考反射光，并且所述n個參考反射光依次射入所述耦合器；

所述樣品光經所述n個樣品反射鏡組分別準直并聚焦后，依次射向位于所述導軌的第一位置到第n位置的待測物品，得到n個樣品反射光，所述n個樣品反射光經所述n個樣品反射鏡組射入所述耦合器，并分別與所述耦合器中的n個參考反射光干涉，得到n路包含同一待測物品不同方向的光譜信息的干涉光；

所述信號采集設備用于探測所述干涉光，得到所述待測物品外表面的干涉信號。

5.如權利要求4所述的密封性檢測裝置，其特征在于，所述判斷單元還具體用于：

將所述結構圖像輸入預設的分類器，由所述預設的分類器輸出所述待測物品是否為密封性良好的物品的分析結果。

6.一種終端，包括存儲器、處理器以及存儲在所述存儲器中并可在所述處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述計算機程序時實現如權利要求1-3任一項所述方法的步驟。

7.一種計算機可讀存儲介質，所述計算機可讀存儲介質存儲有計算機程序，其特征在于，所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1-3任一項所述方法的步驟。