[發明專利]一種利用氨基修飾的介孔硅納米球制備混合基質反滲透膜的方法

在審

• 申請號: 201911295862.0
• 申請日: 2019-12-16
• 公開（公告）號: CN111001309A
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發明（設計）人: 嚴文韜;劉立芬;高從堦
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: B01D67/00
• 分類號: B01D67/00;B01D69/02;B01D71/68;B01D61/02
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 黃美娟;俞慧

1.一種利用氨基修飾的介孔硅納米球制備混合基質反滲透膜的方法，其特征在于：所述方法是以聚砜支撐膜作為基膜，以間苯二胺為水相單體，以均苯三甲酰氯為油相單體，以氨基修飾的介孔硅納米球為油相添加劑，以正庚烷為油相溶劑，采用界面聚合法制備得到混合基質反滲透膜；

所述的氨基修飾的介孔硅納米球是通過將介孔硅納米球添加于濃度為2～4wt％的3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中進行氨基修飾12～36h而獲得。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：油相溶液中，氨基修飾的介孔硅納米球的濃度為0.08～0.24wt％。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于：油相溶液中，氨基修飾的介孔硅納米球的濃度為0.16wt％。

4.如權利要求2或3所述的方法，其特征在于：油相溶液中，均苯三甲酰氯濃度為0.12wt％。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于：水相溶液中，間苯二胺濃度為2wt％，三乙胺濃度為1.1wt％，樟腦磺酸濃度為2.6wt％。

6.如權利要求1-3之一所述的方法，其特征在于：所述利用氨基修飾的介孔硅納米球制備混合基質反滲透膜的方法按照如下步驟實施：

1)將介孔硅納米球添加于濃度為2～4wt％的3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中進行氨基修飾，12～36h后獲得氨基修飾的介孔硅納米球；

2)將聚砜支撐膜浸潤于水相溶液中20～40s以使支撐膜被水相溶液充分浸潤；

3)將經步驟2)處理的膜浸潤于含0.08～0.24wt％的氨基修飾的介孔硅納米球的油相溶液中引發界面聚合以形成芳香聚酰胺分離層；

4)然后，將經步驟3)處理的膜置于70～90℃下熱處理4～6min，制得混合基質反滲透膜。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于：所述步驟1)中，3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液的溶劑為乙醇。

8.如權利要求6所述的方法，其特征在于：所述步驟2)中，所述水相溶液中，間苯二胺濃度為2wt％，三乙胺濃度為1.1wt％，樟腦磺酸濃度為2.6％。

9.如權利要求6所述的方法，其特征在于：所述步驟3)中，界面聚合反應時間為30s。

10.如權利要求6所述的方法，其特征在于：所述步驟3)中，所述油相溶液中，均苯三甲酰氯濃度為0.12wt％。