[發明專利]一種反重力平衡按摩式緩沖對流氣囊的生產工藝及氣囊墊

有效

• 申請號: 201911252832.1
• 申請日: 2019-12-09
• 公開（公告）號: CN110901113B
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 蔡佩霖
• 申請（專利權）人: 東莞市佳栓實業有限公司
• 主分類號: B29D22/02
• 分類號: B29D22/02;B29C65/04;B29C65/78;A45C13/30;A45F3/04;A47C27/08;A47C7/02;A43B17/03;A47G9/10;B62J1/26
• 代理公司: 深圳市神州聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 44324
• 代理人: 周松強

1.一種反重力平衡按摩式緩沖對流氣囊的生產工藝，其包括如下步驟：

步驟一、備料，準備好生產氣囊所需要的墊面；

步驟二、貼合；將墊面貼合成型，得到材料一；

步驟三、制備上墊體；

對材料一進行加熱，然后將材料二上覆蓋在材料一，通過模具壓鑄成型得到上墊體；所述材料二，為具有彈性的布料，以能夠拉伸并完全覆蓋在材料一上，通過材料二的鋪設，使得材料一能夠與壓鑄的模具得以隔離，避免材料一粘合到壓鑄模具上；壓鑄成型后，取掉材料二，得到上墊體；

步驟四、準備下墊體；

步驟五、貼合上墊體和下墊體，得到半成品；

步驟六、整形，得到成品。

2.如權利要求1所述的生產工藝，其特征在于所述貼合上墊體和下墊體后，還需要進一步對半成品進行充氣或者充液體，充氣或者充液體后對上墊體和下墊體中進行密封。

3.如權利要求2所述的生產工藝，其特征在于步驟一中，具體操作是：S1：準備好上墊面和下墊面，先將熱溶膠水均勻涂抹在下墊面的上表面，然后將上墊面對齊鋪在下墊面的上表面，所述下墊面具有一定的彈性，且能夠向材料的四方進行伸展，以能夠產生均衡的受力，從而保護到材料一及所形成的上墊體；同時，又能夠與下墊體進行良好的結合，保持所制得氣囊墊的穩定性。

4.如權利要求3所述的生產工藝，其特征在于所述步驟二中，具體操作是：S2：將步驟一制得的材料放置在貼合機上貼合成型，所述貼合機設有三個滾輪，分別是：前滾輪、后壓輪和收卷輪，其中前滾輪溫度在60℃-120℃之間，后壓輪溫度在常溫或90℃。

5.如權利要求4所述的生產工藝，其特征在于所述步驟三中，具體操作是：S3：將S2貼合成型的材料一放置二十四小時以上，讓其冷卻縮水；

S4：準備好一個可活動的第一治具，將S3成型的材料一固定在第一治具上，放進烤箱烘烤 60-120 秒，烤箱溫度在 180℃-220℃之間；

S5：準備好第一凸模和第一凹模，將其放置并固定在油壓機上，將S4烘烤好材料一的第一治具沿著第一凹模的模框四周套上并嚙合；

S6：準備好一個面積大于第一凹模的第二治具和一塊與第二治具面積對應的材料二，用夾子將材料二與第二治具固定，然后將材料二打濕后再覆蓋于所述材料一上；

S7：將S6與材料二固定好的第二治具放置在第一治具上表面，并保證材料二全面覆蓋第一治具；

S8：壓鑄，制得上墊體，此時，上墊體上具有若干個氣囊及連通氣囊和外部的氣道。

6.如權利要求5所述的生產工藝，其特征在于所述步驟五中，具體操作是：S9：準備好第二凹模，將其固定在高周波機上，并將S8制得的上墊體放置在第二凹模上，放置時將氣囊朝下，與第二凹模的凹孔一一對應；

S10：準備好下墊體和絕緣布，先將下墊體對齊覆蓋在S9放置好的上墊體上，再將絕緣布對齊覆蓋在下墊體上；所述下墊體與下墊面的材料相同；

S11：準備好第二凸模，將其固定在高周波機上，正確操作高周波機，通過電波將 S9 的上墊體和S10 的下墊體完成貼合，在貼合的過程中，同時用灌氣裝置，通過預留的進氣口灌氣，用高周波機將進氣口和每組氣室的截氣口壓緊，制得氣囊墊。

7.如權利要求6所述的生產工藝，其特征在于所述第一凸模包括第一底座和第一冷卻水孔，第一冷卻水孔貫穿第一底座，第一底座上表面的四角連接有定位凸塊，第一底座上開設有定位柱孔，定位柱孔之間的第一底座上設有氣囊凸塊，氣囊凸塊之間連接有氣流通道凸塊，第一底座上表面的一側連接有進氣口凸塊，進氣口凸塊與氣囊凸塊 的一側連接；所述第一凹模包括第二底座和第二冷卻水孔，第二冷卻水孔貫穿第二底座，第二底座的四角上開設有定位凹孔，第二底座的上表面開設有模框，模框中間的第二底座上開設有氣囊凹槽，氣囊凹槽之間連接有氣流通道凹槽，氣囊凹槽的一端連接有進氣口凹槽，至少二個氣囊凹槽形成一組對流氣室凹槽，每組對流氣室凹槽通過截氣凹槽連接。