[發(fā)明專利]具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911251985.4 | 申請日: | 2019-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN113024251A | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李東升;張攀德;葉勇;王紅;曾慶兵;李春暉;王盛 | 申請(專利權(quán))人: | 上海航空電器有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/505 | 分類號: | C04B35/505;C04B35/622;C04B41/83;C09K11/77;C04B41/53 |
| 代理公司: | 上海世圓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31320 | 代理人: | 顧俊超 |
| 地址: | 201101 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 凹形 結(jié)構(gòu) 薄膜 顯色性 激光 照明 熒光 陶瓷 及其 制備 方法 | ||
1.具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷,其特征在于,包含有,陶瓷本體,其化學(xué)組成為:(CexY1-x)3Al5O12,其中,x的取值范圍為:0.001≤x≤0.03,所述陶瓷本體的頂面上布置有平凸形隆起部;以及,
薄膜層體,其覆蓋于所述陶瓷本體的頂面,所述薄膜層體的底面上布置有與所述平凸形隆起部對應(yīng)的平凹形凹陷部,所述平凹形凹陷部與所述平凸形隆起部相配合,并且,所述薄膜層體的內(nèi)部分布有紅色的熒光粉體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷,其特征在于,所述薄膜層體的成分為SiO2、環(huán)氧樹脂、透明硅膠中的一種、任意兩種或全部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷,其特征在于,所述薄膜層體的厚度為100-300μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷,其特征在于,所述熒光粉體的化學(xué)組成為:(EuyY1-y)3Al5O12,其中,y的取值范圍為:0.0005≤y≤0.04。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷,其特征在于,所述平凹形凹陷部中,距離所述陶瓷本體的中心越近的所述平凹形凹陷部的直徑越大且深度越大。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷,其特征在于,所述平凹形凹陷部的直徑為20-150μm,深度為10-50μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷,其特征在于,所述熒光粉體的激發(fā)波長為440-500nm,發(fā)射波長為590-650nm,粉體粒徑為2-20μm。
8.具有平凹形結(jié)構(gòu)薄膜的高顯色性激光照明用熒光陶瓷的制備方法,用于制備權(quán)利要求1至7中任意一項所述的熒光陶瓷,其特征在于,包含有以下步驟,
步驟S1,以CeO2、Y2O3、Al2O3為原料,按所述陶瓷化學(xué)組成(CexY1-x)3Al5O12配置所述陶瓷粉體原料,其中,x的取值范圍為:0.001≤x≤0.03;
步驟S2,使用濕法球磨,以無水乙醇作為分散介質(zhì),球磨6-20h后干燥;
步驟S3,將干燥后的粉體使用模具施以5-10MPa的壓力成型獲得陶瓷素坯;
步驟S4,將所述陶瓷素坯施以150-250MPa冷等靜壓,形成致密的陶瓷素坯;
步驟S5,將所述致密的陶瓷素坯放入真空燒結(jié)爐1500-1800℃,4-20h保溫后,經(jīng)退火得到陶瓷本體;
步驟S6,將所述陶瓷本體加工至目標(biāo)規(guī)格后,使用激光雕刻或化學(xué)刻蝕方法獲得所述平凸形隆起部;
步驟S7,將紅色的熒光粉體均勻地分散在薄膜層體的原料中,其中,所述薄膜層體的原料由SiO2、環(huán)氧樹脂、透明硅膠等中的一種、任意兩種或全部,所述紅色的熒光粉體與所述薄膜層體的原料的質(zhì)量比為m,m的取值范圍為:0.01≤m≤0.1;以及,
步驟S8,經(jīng)噴涂、涂布、滾刷,絲網(wǎng)印刷方式將混合后的原料涂覆后加熱干燥或高溫熔融在所述陶瓷本體的頂面形成所述薄膜層體,厚度為100-300μm。
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