[發(fā)明專利]一種化學(xué)性能增強光刻膠及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911247007.2 | 申請日： | 2019-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN111045294A | 公開（公告）日： | 2020-04-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李樹白;姚培;張啟蒙;劉媛;周敏茹;周海浪;楊天寶;花佳淋 | 申請（專利權(quán)）人： | 常州工程職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;C08F220/18;C08F212/14;C08F216/14;C08F216/18 |
| 代理公司： | 江陰市揚子專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32309 | 代理人： | 隋玲玲 |
| 地址： | 213161 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 化學(xué) 性能 增強 光刻 及其 制備 方法 | ||
1.一種化學(xué)性能增強光刻膠，其特征在于：其組分包括：具有衍生自羥基苯乙烯的聚合單元和衍生自甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯的聚合單元的樹脂，全氟烷基乙烯基醚，乙烯基正丁醚，二苯基-4-苯硫基代苯基硫鎓鹽，小分子硅酮，二異丙基胺，溶劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)性能增強光刻膠，其特征在于：所述小分子硅酮的分子量為2000以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)性能增強光刻膠，其特征在于，所述全氟烷基乙烯基醚，乙烯基正丁醚的質(zhì)量比為2:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)性能增強光刻膠，其特征在于：所述小分子硅酮的添加量為化學(xué)性能增強光刻膠總固含量的2-4%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)性能增強光刻膠，其特征在于：所述溶劑為丙二醇單甲基醚乙酸酯。
6.一種化學(xué)性能增強光刻膠的制備方法，其特征在于包括如下步驟：
（1）具有衍生自羥基苯乙烯的聚合單元和衍生自甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯的聚合單元的樹脂，全氟烷基乙烯基醚，乙烯基正丁醚，二苯基-4-苯硫基代苯基硫鎓鹽，二異丙基胺，分散到溶劑中；
（2）然后加入小分子硅酮，以1200R/s的轉(zhuǎn)速分散30分鐘；
（3）通過0.2um的過濾膜過濾后即可。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
