[發明專利]一種中高溫太陽光譜選擇性吸收涂層及其制備方法、集熱殼

在審

• 申請號: 201911234596.0
• 申請日: 2019-12-05
• 公開（公告）號: CN111076434A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 楊子鍵;饒瑞;劉靜
• 申請（專利權）人: 杭州維瑞科技有限公司
• 主分類號: F24S70/225
• 分類號: F24S70/225;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/35
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1.一種中高溫太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：包括基底層；在基底層上依次排布有紅外反射層、復合吸收層和減反層；所述的復合吸收層自下而上依次包括鉻鋁氧化物主吸收層和鉻鋁氧化物亞吸收層，所述鉻鋁氧化物主吸收層和鉻鋁氧化物亞吸收層的材料為對光譜具有吸收性能的材料，主吸收層的鉻鋁含量比高于亞吸收層的鉻鋁含量比。

2.根據權利要求1所述的太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：所述鉻鋁氧化物主吸收層和鉻鋁氧化物亞吸收層的折射率依次降低；所述鉻鋁氧化物主吸收層和鉻鋁氧化物亞吸收層的消光系數依次降低。

3.根據權利要求2所述的太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：在380-2500nm范圍內，所述鉻鋁氧化物主吸收層的折射率為2.32-3.87，所述鉻鋁氧化物亞吸收層的折射率為2.18-2.51；在380-2500nm范圍內，所述鉻鋁氧化物主吸收層的消光系數為1.21-2.08，所述鉻鋁氧化物亞吸收層的消光系數為0.29-0.77。

4.根據權利要求1所述的太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的復合吸收層的總厚度為116-118nm，

其中：

所述鉻鋁氧化物主吸收層的材料為Cr₇₀Al₃₀O_x，其厚度為72-73nm；

所述鉻鋁氧化物亞吸收層的材料為Cr₅₅Al₄₅O_x，其厚度為44-45nm。

5.根據權利要求1所述的中高溫太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的基底的材料為玻璃、304鏡面不銹鋼，所述基底層的厚度為1~6mm。

6.根據權利要求1所述的中高溫太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的紅外反射層的材料的輻射率低于0.04，并且在高溫下熱穩定性能優異，所述紅外反射層的厚度為150nm。

7.根據權利要求6所述的中高溫太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的紅外反射層為W。

8.根據權利要求1所述的中高溫太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于：所述減反層的材料為SiO₂、Al₂O₃、ThO₂、Dy₂O₃、Eu₂O₃、Gd₂O₃、Y₂O₃、La₂O₃、MgO或Sm₂O₃，所述減反層的厚度為50~100nm。