[發明專利]一種寬分布四氧化三鈷的生產工藝及生產裝置

在審

• 申請號: 201911190919.0
• 申請日: 2019-11-28
• 公開（公告）號: CN112850802A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 許開華;蔣振康;呂志;王登登;劉坤;陳永安
• 申請（專利權）人: 荊門市格林美新材料有限公司
• 主分類號: C01G51/04
• 分類號: C01G51/04
• 代理公司: 深圳市合道英聯專利事務所(普通合伙) 44309
• 代理人: 廉紅果

1.一種寬分布四氧化三鈷的生產工藝，其特征在于，該工藝包括如下步驟：

步驟1、將鈷鹽溶液和沉淀劑溶液持續加入到反應裝置中，在攪拌狀態下進行沉淀反應，直至反應得到的第一鈷鹽沉淀物的粒徑達到第一粒徑值為止；

步驟2、對所述步驟1得到的粒徑達到第一粒徑值的第一鈷鹽沉淀物進行分離，得到第一粒徑鈷鹽沉淀物，待用；

步驟3、重復步驟1和2至少一次，則至少得到一種第二粒徑鈷鹽沉淀物；

步驟4、將所述步驟2得到的第一粒徑鈷鹽沉淀物和步驟3得到的第二粒徑鈷鹽沉淀物混合，得到粒徑寬分布鈷鹽沉淀物；

步驟5、將所述步驟4得到的粒徑寬分布鈷鹽沉淀物依次進行洗滌、干燥、煅燒，得到粒徑寬分布四氧化三鈷。

2.如權利要求1所述的寬分布四氧化三鈷的生產工藝，其特征在于，所述步驟1的具體方法為：將鈷鹽溶液和沉淀劑溶液持續加入到反應裝置中，進料過程中保持鈷鹽溶液的流量不變，通過調節碳酸鹽溶液的流量，控制體系的pH值為7～8，并在攪拌下進行反應，直至反應得到的第一鈷鹽沉淀物的粒徑達到第一粒徑值為止。

3.如權利要求1所述的寬分布四氧化三鈷的生產工藝，其特征在于，所述步驟1中，所述鈷鹽溶液中鈷離子的濃度為0.4～2.0mol/L；所述沉淀劑溶液的濃度為為1～3mol/L。

4.如權利要求1所述的寬分布四氧化三鈷的生產工藝，其特征在于，所述步驟1中，所述鈷鹽溶液中的鈷鹽為氯化鈷、硫酸鈷、硝酸鈷中的一種或幾種；所述沉淀劑溶液為碳酸鈉溶液、碳酸銨溶液和碳酸氫銨溶液。

5.如權利要求1-4任一項所述的寬分布四氧化三鈷的生產工藝，其特征在于，所述步驟1中，所述鈷鹽溶液的進料速度為400～700L/min。

6.如權利要求1-4任一項所述的寬分布四氧化三鈷的生產工藝，其特征在于，所述步驟1中，所述反應溫度為50～60℃，攪拌速度為150～200r/min。

7.如權利要求6所述的寬分布四氧化三鈷的生產工藝，其特征在于，所述步驟5中，所述煅燒溫度為400～600℃，煅燒時間為1.5～3h。

8.一種寬分布四氧化三鈷的生產裝置，其特征在于，包括反應裝置(1)、固液分離器(2)、計量泵(3)、分級槽(4)、以及用于混合所述分級槽(4)內產品的混合槽；所述計量泵(3)與反應裝置(1)的進料口連接用于持續輸送及控制鈷鹽溶液和沉淀劑溶液的進料速度，所述反應裝置(1)的出料口通過固液分離器(2)與分級槽(4)連接實現對沉淀在固液分離器(2)內產品的粒徑分級。

9.如權利要求8所述的寬分布四氧化三鈷的生產裝置，其特征在于，所述分級槽(4)至少有兩個，且均與固液分離器(2)連接。

10.如權利要求8所述的寬分布四氧化三鈷的生產裝置，其特征在于，所述計量泵(3)上設置有液體流量控制器用于控制鈷鹽溶液和沉淀劑溶液的進料速度。