[發明專利]畸變地質體速度場的校正方法及裝置

有效

• 申請號: 201911190151.7
• 申請日: 2019-11-28
• 公開（公告）號: CN112859167B
• 公開（公告）日: 2023-08-22
• 發明（設計）人: 蘇勤;王靖;郄樹海;吳杰;劉偉明;劉桓
• 申請（專利權）人: 中國石油天然氣股份有限公司
• 主分類號: G01V1/36
• 分類號: G01V1/36
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 孫乳筍;周永君

1.一種畸變地質體速度場的校正方法，其特征在于，所述方法包括：

根據地震數據中的振幅參數、同相軸連續性以及波形，分別拾取待校正地質體以及所述待校正地質體上、下地質體，其中，待校正地質體中發生畸變的部分設置為地質體控層組，待校正地質體與待校正地質體其上的地質體的界面稱為地質體上控層，待校正地質體與待校正地質體其下的地質體的界面稱為地質體下控層；

對所述待校正地質體發生畸變的部分以及其下的地質體發生畸變的部分進行平滑，以生成平滑結果；

根據所述平滑結果對所述待校正地質體以及所述待校正地質體其下的地質體的速度場進行校正；

所述根據所述平滑結果對所述待校正地質體以及所述待校正地質體其下的地質體的速度場進行校正，包括：

根據平滑結果計算平滑后的待校正地質體中地質體控層組與地質體上控層之間的距離以及平滑后的待校正地質體中地質體控層組與地質體下控層之間的距離；

根據待校正地質體中地質體控層組與地質體上控層之間的距離、待校正地質體中地質體控層組與地質體下控層之間的距離、所述平滑后的待校正地質體中地質體控層組與地質體上控層之間的距離以及所述平滑后的待校正地質體中地質體控層組與地質體下控層之間的距離生成速度場畸變校正因子；

地層滿足等t的原則，t為地層垂向旅行時間，對于待校正地質體上控層與待校正地質體間以及待校正地質體與待校正地質體下控層間兩套地層分別存在如下關系：

，其中，h_A為待校正地質體中地質體控層組到地質體上控層的距離，h_AS為地質體控層組平滑后到地質體上控層的距離，v_A為地質體控層組與地質體上控層層間速度，v_AS為消除地質體控層組畸變后地質體控層組與地質體上控層的層間速度，h_B為地質體下控層到地質體上控層的距離，h_BS為地質體下控層平滑后到地質體上控層的距離，v_B為地質體下控層與地質體控層組的層間速度，v_BS消除地質體下控層畸變后地質體下控層與地質體控層組的層間速度；

對上述關系進行整理，得到：，其中，，α_A為地質體控層組的速度場畸變校正因子，α_B為地質體下控層的速度場畸變校正因子；

根據所述地質體控層組的速度場畸變校正因子對所述待校正地質體進行校正以及根據所述地質體下控層的速度場畸變校正因子對所述待校正地質體其下的地質體的速度場進行校正。

2.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述對所述待校正地質體發生畸變的部分以及其下的地質體發生畸變的部分進行平滑，以生成平滑結果，包括：

利用層位平滑方法，分別計算所述待校正地質體發生畸變的部分以及其下的地質體發生畸變的部分的平滑參數；

根據所述平滑參數對所述待校正地質體發生畸變的部分以及其下的地質體發生畸變的部分進行平滑。

3.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，還包括：根據地質體速度在橫向上的變化情況以及地質體下伏地層幅度，判斷所述地質體是否為畸變地質體。