[發明專利]一種納米級紋理和微米級紋理疊加玻璃蓋板及其制作方法

在審

• 申請號: 201911143539.1
• 申請日: 2019-11-20
• 公開（公告）號: CN110757931A
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 王鈺;黃宇正;余雅;楊家林;鐘易明
• 申請（專利權）人: 伯恩創盛技術研發(惠州)有限公司
• 主分類號: B32B27/36
• 分類號: B32B27/36;B32B27/06;B32B7/12;B32B33/00;B32B37/12;B32B38/14;B44C1/17
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• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，包括以下步驟：（1）首先通過涂布工藝將光阻覆蓋在基板上，然后通過曝光顯影將納米級紋理制作在基板上，并烘烤固化；（2）再通過涂布工藝將光阻覆蓋在基板上的納米級紋理的外表面，然后進行曝光顯影而制得納米級紋理和微米級紋理疊加的雙重紋理，并烘烤固化成型；（3）對步驟（2）中的基板上的雙重紋理進行UV轉印，而將雙重紋理轉印到膜片上；（4）將步驟（3）中的膜片通過真空噴鍍金屬或金屬氧化物而進行PVD鍍膜和油墨蓋底；（5）裁切并貼合。該制作方法能在玻璃蓋板產品上制成納米級紋理和微米級紋理相互疊加的雙重紋理，以滿足消費者對手機玻璃蓋板產品的多樣化、個性化追求。

技術領域

本發明涉及玻璃蓋板產品紋理化技術領域，尤其涉及一種納米級紋理和微米級紋理疊加玻璃蓋板及其制作方法。

背景技術

隨著5G時代來臨，玻璃材料具有高透光性、高硬度、高耐磨性，良好的熱穩定性及化學穩定性，低的電磁波傳輸衰減性能等優勢，將成為智能終端行業的主要趨勢，玻璃機身逐漸成為主流設計，消費者更加追求手機的外觀和使用感受。

傳統的玻璃紋理蝕刻需黃光、HF溶液蝕刻等工藝實現，對環境不友好，圖形不連續，蝕刻速率較難控制等局限性，且蝕刻紋理圖案線條一般只有微米級別，現有的玻璃蓋板產品紋理裝飾工藝可以采用蝕刻紋理、膜片裝飾等方式實現，但只能在玻璃蓋板產品上制作只含有一種微米級紋理或納米級紋理，使得現有手機玻璃蓋板產品上的紋理效果比較單一，滿足不了消費者對手機玻璃蓋板產品的紋理效果的多樣性、個性化追求。

發明內容

本發明的目的在于提供一種納米級紋理和微米級紋理疊加玻璃蓋板及其制作方法，其能在玻璃蓋板產品上制成納米級紋理和微米級紋理相互疊加的雙重紋理，呈現出具有不同紋理效果的多樣裝飾，以滿足消費者對手機玻璃蓋板產品的多樣化、個性化追求。

為了實現上述目的，本發明一方面的技術方案提供了一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，包括以下步驟：

（1）首先通過涂布工藝將感光性樹脂光阻覆蓋在基板上，并進行預烤100-300s，預烤溫度為100-150℃，然后通過曝光顯影將納米級紋理制作在基板上，0mW<曝光能量≤200mW，UV燈波長為365-425nm，顯影液采用TMAH溶液，顯影液電導率為10-60us/cm、溫度為23±2℃，顯影時間為20-240s，并經純水洗、吹干、烘烤固化，烘烤時間為1-2h，烘烤溫度為100-150℃；

（2）再通過涂布工藝將感光性樹脂光阻覆蓋在基板上的納米級紋理的外表面，并進行預烤100-300s，預烤溫度為100-150℃，然后進行曝光顯影而制得納米級紋理和微米級紋理疊加的雙重紋理，0mW<曝光能量≤2000mW，UV燈波長為365-425nm，顯影液采用TMAH溶液，顯影液電導率為10-60us/cm、溫度為23±2℃，顯影時間為20-240s，并經純水洗、吹干、烘烤固化成型,烘烤時間為1-2h，烘烤溫度為100-150℃；

（3）對步驟（2）中的基板上的雙重紋理進行UV轉印，在雙重紋理上施加由光固化材料制成的膠水，在膠水上覆蓋PET膜片,并將基板與雙重紋理分離，從而使得雙重紋理轉印到PET膜片上，UV轉印的滾輪壓力0.2-0.6MPa、走速為0.1-2mm/sec、固化能量為400-800mJ/cm²；

（4）將步驟（3）中PET膜片的雙重紋理面通過真空噴鍍金屬或金屬氧化物而進行PVD鍍膜，再對PVD鍍膜的外表面進行油墨蓋底并固烤，固烤溫度為70-90℃，固烤時間為1-2h；

（5）根據玻璃蓋板產品外形尺寸大小對步驟（4）中所得的PET膜片進行切割，并通過OCA光學膠將裁切好的PET膜片與玻璃蓋板產品貼合。

進一步地，步驟（1）和（2）中的所述涂布工藝選自噴涂工藝、刮涂工藝以及旋涂工藝中的一種。