[發明專利]一種納米級紋理和微米級紋理疊加玻璃蓋板及其制作方法

在審

• 申請號: 201911143539.1
• 申請日: 2019-11-20
• 公開（公告）號: CN110757931A
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 王鈺;黃宇正;余雅;楊家林;鐘易明
• 申請（專利權）人: 伯恩創盛技術研發(惠州)有限公司
• 主分類號: B32B27/36
• 分類號: B32B27/36;B32B27/06;B32B7/12;B32B33/00;B32B37/12;B32B38/14;B44C1/17
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1.一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）首先通過涂布工藝將感光性樹脂光阻覆蓋在基板上，并進行預烤100-300s，預烤溫度為100-150℃，然后通過曝光顯影將納米級紋理制作在基板上，0mW<曝光能量≤200mW，UV燈波長為365-425nm，顯影液采用TMAH溶液，顯影液電導率為10-60us/cm、溫度為23±2℃，顯影時間為20-240s，并經純水洗、吹干、烘烤固化，烘烤時間為1-2h，烘烤溫度為100-150℃；

（2）再通過涂布工藝將感光性樹脂光阻覆蓋在基板上的納米級紋理的外表面，并進行預烤100-300s，預烤溫度為100-150℃，然后進行曝光顯影而制得納米級紋理和微米級紋理疊加的雙重紋理，0mW<曝光能量≤2000mW，UV燈波長為365-425nm，顯影液采用TMAH溶液，顯影液電導率為10-60us/cm、溫度為23±2℃，顯影時間為20-240s，并經純水洗、吹干、烘烤固化成型,烘烤時間為1-2h，烘烤溫度為100-150℃；

（3）對步驟（2）中的基板上的雙重紋理進行UV轉印，在雙重紋理上施加由光固化材料制成的膠水，在膠水上覆蓋PET膜片,并將基板與雙重紋理分離，從而使得雙重紋理轉印到PET膜片上，UV轉印的滾輪壓力0.2-0.6MPa、走速為0.1-2mm/sec、固化能量為400-800mJ/cm²；

（4）將步驟（3）中PET膜片的雙重紋理面通過真空噴鍍金屬或金屬氧化物而進行PVD鍍膜，再對PVD鍍膜的外表面進行油墨蓋底并固烤，固烤溫度為70-90℃，固烤時間為1-2h；

（5）根據玻璃蓋板產品外形尺寸大小對步驟（4）中所得的PET膜片進行切割，并通過OCA光學膠將裁切好的PET膜片與玻璃蓋板產品貼合。

2.根據權利要求1所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，其特征在于：步驟（1）和（2）中的所述涂布工藝選自噴涂工藝、刮涂工藝以及旋涂工藝中的一種。

3.根據權利要求2所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，其特征在于：步驟（1）和（2）中的所述光阻選自環氧丙烯酸酯光阻、聚氨酯丙烯酸酯光阻、聚酯丙烯酸酯光阻、環氧樹脂光阻中的一種。

4.根據權利要求3所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，其特征在于：步驟（1）中的所述納米級紋理的高度小于1μm。

5.根據權利要求4所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，其特征在于：步驟（2）中的所述微米級紋理的高度為1μm-20μm。

6.根據權利要求5所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，其特征在于：步驟（4）中的所述金屬選自鋁、鈦、鋯、鉻中的一種或幾種；且步驟（4）中的PVD鍍膜的厚度為0.1μm-1μm。

7.根據權利要求1至6任一項所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加制作方法，其特征在于：步驟（4）中的油墨蓋底的厚度為10μm-50μm；且油墨顏色選自黑色、白色、金色以及銀色中的一種或幾種。

8.一種納米級紋理和微米級紋理疊加玻璃蓋板，其特征在于：所述玻璃蓋板包括從上至下依次連接的油墨蓋底層、PVD鍍膜層、雙重紋理層、PET膜片層、OCA光學膠層以及玻璃蓋板產品，所述雙重紋理層由納米級紋理和微米級紋理交錯疊加而成。

9.根據權利要求8所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加玻璃蓋板，其特征在于：所述納米級紋理的高度小于1μm；所述微米級紋理的高度為1μm-20μm。

10.根據權利要求8或9所述一種納米級紋理和微米級紋理疊加玻璃蓋板，其特征在于：所述油墨蓋底層的厚度為10μm-50μm；PVD鍍膜層的厚度為0.1μm-1μm。