[發(fā)明專利]一種硅片拋光墊清洗裝置及清洗方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201911134376.0
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN110842783A
• 公開（公告）日: 2020-02-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 祝斌;王彥君;裴坤羽;武衛(wèi);劉建偉;劉園;孫晨光;由佰玲;謝艷;楊春雪;劉秒;劉姣龍;常雪巖;呂瑩;徐榮清
• 申請（專利權(quán)）人: 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司;中環(huán)領(lǐng)先半導體材料有限公司
• 主分類號: B24B53/017
• 分類號: B24B53/017
• 代理公司: 天津諾德知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 12213
• 代理人: 欒志超

1.一種硅片拋光墊清洗裝置，其特征在于，包括用于儲存清洗液的第一水槽和第二水槽、用于清洗上拋光墊和下拋光墊的刷子以及用于控制所述刷子移動的機械臂；所述刷子上端面與所述上拋光墊接觸，所述刷子下端面與所述下拋光墊接觸；所述第一水槽通過第一水管與所述第二水槽連通，所述第二水槽通過所述第二水管與所述刷子連通；設(shè)置在所述刷子上下端部的噴嘴均與所述機械臂軸線成一定角度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片拋光墊清洗裝置，其特征在于，所述角度為60°。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種硅片拋光墊清洗裝置，其特征在于，所述刷子中心軸線分別與所述上拋光墊端面和所述下拋光墊端面垂直；在所述刷子內(nèi)部設(shè)有T型結(jié)構(gòu)的通道，所述第二水管貫穿所述機械臂與所述通道一端連通，所述噴嘴與所述通道另兩端連通。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種硅片拋光墊清洗裝置，其特征在于，所述刷子上下端面均設(shè)有噴嘴組件，所述噴嘴置于所述噴嘴組件中部；所述噴頭組件懸空設(shè)置在所述刷子端面中心軸線處且沿所述刷子長度方向向外延伸設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅片拋光墊清洗裝置，其特征在于，所述噴頭組件還包括用于卡固所述噴嘴的套夾和用于調(diào)節(jié)所述噴嘴角度的調(diào)節(jié)件，所述噴嘴、所述套夾和所述調(diào)節(jié)件從內(nèi)向外依次設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種硅片拋光墊清洗裝置，其特征在于，所述刷子上下端面還設(shè)有毛刷組件，所述毛刷組件與所述噴頭組件同向設(shè)置，所述毛刷組件置于所述噴頭組件外側(cè)，所述毛刷組件與所述噴頭組件之間有空隙。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-2、4-6任一項所述的一種硅片拋光墊清洗裝置，其特征在于，在所述第一水槽內(nèi)設(shè)有低壓水泵；在所述第二水槽內(nèi)設(shè)有高壓水泵。

8.一種硅片拋光墊清洗方法，其特征在于，采用如權(quán)利要求1-7任一項所述的清洗裝置，步驟包括：清洗液依次從所述第一水槽和所述第二水槽通過所述第二水管貫穿所述機械臂進入所述刷子，再經(jīng)所述噴嘴分別向所述上拋光面和所述下拋光面進行噴灑；

在這一過程中，所述上拋光面和所述下拋光面同步反向旋轉(zhuǎn)，所述機械臂帶動所述刷子水平沿所述下拋光面半徑從外到內(nèi)移動；

所述第一水槽水壓小于所述第二水槽水壓。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種硅片拋光墊清洗方法，其特征在于，所述第一水槽水壓為10-20bar；所述第二水槽水壓是80-120bar。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的一種硅片拋光墊清洗方法，其特征在于，所述毛刷組件和所述噴嘴相對于所述下拋光面水平直線移動。