[發明專利]大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法及其精密切割裝置在審
| 申請號: | 201911110191.6 | 申請日: | 2019-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN110896028A | 公開(公告)日: | 2020-03-20 |
| 發明(設計)人: | 楊云龍;姜蘇;高陽;胡小波 | 申請(專利權)人: | 江蘇京創先進電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/304 | 分類號: | H01L21/304;H01L21/683;B24B27/06;B24B41/06 |
| 代理公司: | 蘇州市小巨人知識產權代理事務所(普通合伙) 32415 | 代理人: | 胡亞蘭 |
| 地址: | 215500 江蘇省蘇州市常熟*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 尺寸 厚度 半導體材料 精密 切割 方法 及其 裝置 | ||
1.一種大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,所述半導體材料至少設有呈交叉或平行分布的第一預設切割道組和第二預設切割道組,根據各預設切割道組將半導體材料切割成若干目標切割芯片,且所述半導體材料的厚度大于其目標切割芯片顆粒的長度和寬度,所述精密切割步驟包括:將半導體材料直接或間接固定粘接在切割平臺上,采用刀片根據第一預設切割道組對所述半導體材料進行切斷加工,所述半導體材料形成第一切割縫組,向所述第一切割縫組內填充灌注支撐定型固化膠后,再采用刀片根據第二預設切割道組對所述半導體材料進行切斷加工,通過填充解膠工藝去除所述第一切割縫組內的灌注支撐定型固化膠,用于避免由于目標切割芯片顆粒重心高而導致目標切割芯片顆粒在粘接接觸面上的相對位移。
2.根據權利要求1所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,特征在于,所述第一預設切割道組包括1個或多個呈平行分布的第一預設切割道;所述第二預設切割道組包括1個或多個呈平行分布的第二預設切割道,且所述第二預設切割道與所述第一預設切割道呈交叉或平行分布。
3.根據權利要求1所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,特征在于,所述第一預設切割道組包括多個呈平行分布的第一預設切割道,所述第一預設切割道至少設有呈交替平行狀分布的第一預設切割道單元A和第一預設切割道單元B,其中,根據第一預設切割道組對所述半導體材料進行切斷加工的步驟包括:采用刀片根據第一預設切割道單元A對所述半導體材料進行切斷加工,所述半導體材料形成第一切割縫單元A,向所述第一切割縫單元A內填充灌注支撐定型固化膠后,再采用刀片根據第一預設切割道單元B對所述半導體材料進行切斷加工,所述半導體材料形成第一切割縫單元B,向所述第一切割縫單元B內填充灌注支撐定型固化膠。
4.根據權利要求2或3所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,特征在于,所述第二預設切割道組包括多個呈平行分布的第二預設切割道,所述第二預設切割道至少設有呈交替平行狀分布的第二預設切割道單元A和第二預設切割道單元B,其中,根據第二預設切割道組對所述半導體材料進行切斷加工的步驟包括:采用刀片根據第二預設切割道單元A對所述半導體材料進行切斷加工,所述半導體材料形成第二切割縫單元A,向所述第二切割縫單元A內填充灌注支撐定型固化膠后,再采用刀片根據第二預設切割道單元B對所述半導體材料進行切斷加工,通過填充解膠工藝去除各切割縫單元內的灌注支撐定型固化膠,用于避免由于目標切割芯片顆粒重心高而導致目標切割芯片顆粒在粘接接觸面上的相對位移。
5.根據權利要求1所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,特征在于,所述切割平臺采用真空吸附結構,在所述切割平臺上鋪設吸附防護膜,所述防護膜粘接固定硬質基板,所述硬質基板上固定粘接半導體材料。
6.根據權利要求1所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,特征在于,在所述填充解膠工藝后,還包括固定粘接解膠工藝,用于將各目標切割芯片顆粒從所述粘接接觸面上脫落分揀。
7.根據權利要求1所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,特征在于,所述灌注支撐定型固化膠是通過向所述第一切割縫組內填充膠水,該膠水經過固化后在所述第一切割縫組內形成;在向所述第一切割縫組內填充灌注支撐定型固化膠之前,可選擇性預先用氣槍去除清理所述半導體材料表面/和所述粘接接觸面上的殘留切削液。
8.根據權利要求1或7所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割方法,特征在于,所述支撐定型固化膠的膠水采用蟲膠液,和/或所述半導體材料的粘接劑采用松香石蠟膠。
9.一種大尺寸厚度半導體材料的精密切割裝置,其特征在于,包括與真空負壓源連接的切割平臺,所述切割平臺鋪設防護膜,所述防護膜上粘貼硬質基板,所述硬質基板通過粘接劑固定粘接半導體材料。
10.根據權利要求9所述的大尺寸厚度半導體材料的精密切割裝置,其特征在于,所述切割平臺下方設有與真空負壓源負壓連接的吸片真空管,所述防護膜采用藍膜或UV膜。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇京創先進電子科技有限公司,未經江蘇京創先進電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911110191.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種飼料粉碎機用減震裝置
- 下一篇:一種鹽酸厄洛替尼的制備方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





