[發(fā)明專利]顯示裝置及其驅(qū)動方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911102034.0 | 申請日: | 2019-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN110824771B | 公開(公告)日: | 2022-03-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 許雅琴;黃麗玉 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山龍騰光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;G02F1/1523;G02F1/155 |
| 代理公司: | 上海波拓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31264 | 代理人: | 蔡光仟 |
| 地址: | 215301 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 及其 驅(qū)動 方法 | ||
1.一種顯示裝置,包括背光模組(50)以及位于該背光模組(50)上側(cè)的顯示面板,其特征在于,該背光模組(50)包括上基板(51)、與該上基板(51)相對設(shè)置的下基板(52)以及位于該上基板(51)與該下基板(52)之間邊框(53),該上基板(51)、該下基板(52)與該邊框(53)之間形成密閉的容納腔(501),該容納腔(501)內(nèi)設(shè)有電解液(54),該上基板(51)朝向該電解液(54)的一側(cè)設(shè)有第一電極(511),該下基板(52)朝向該電解液(54)的一側(cè)設(shè)有第二電極(521),該第一電極(511)和該第二電極(521)朝向該電解液(54)的一側(cè)為光滑的平面,該上基板(51)、該下基板(52)、該第一電極(511)、該第二電極(521)以及該電解液(54)均為透明態(tài),當該第一電極(511)與該第二電極(521)上施加不同極性的直流電壓時,該第一電極(511)或該第二電極(521)能夠形成反射層(541),該反射層(541)能夠反射光線;
該背光模組(50)還包括側(cè)入式光源(55),該側(cè)入式光源(55)位于該邊框(53)遠離該電解液(54)的一側(cè),該邊框(53)與該側(cè)入式光源(55)對應(yīng)的側(cè)壁為透明態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,該電解液(54)包括硝酸銀、二甲基亞砜和氯化銅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,該顯示面板包括第一基板(10)、與該第一基板(10)相對設(shè)置的第二基板(20)以及位于該第一基板(10)與該第二基板(20)之間的液晶層(30),該第二基板(20)上由多條掃描線(1)和多條數(shù)據(jù)線(2)相互絕緣交叉限定形成多個像素單元(P),每個像素單元(P)內(nèi)設(shè)有像素電極(23)和薄膜晶體管(3),該像素電極(23)通過該薄膜晶體管(3)與鄰近該薄膜晶體管(3)的掃描線(1)和數(shù)據(jù)線(2)連接,該第一基板(10)上設(shè)有與多條該掃描線(1)和多條該數(shù)據(jù)線(2)對應(yīng)的黑矩陣(11),該黑矩陣(11)限定形成與該像素單元(P)一一對應(yīng)的多個子像素,該第一基板(10)上設(shè)有上偏振片(41),該第二基板(20)上設(shè)有下偏振片(42),該上偏振片(41)與該下偏振片(42)的透光軸相互垂直。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置,其特征在于,多個該子像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍色子像素,該紅色子像素對應(yīng)設(shè)有紅色色阻層(12a),該綠色子像素對應(yīng)設(shè)有綠色色阻層(12b),該藍色子像素對應(yīng)設(shè)有藍色色阻層(12c)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置,其特征在于,多個該子像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍色子像素,該紅色子像素對應(yīng)設(shè)有紅色量子點層(14a),該綠色子像素對應(yīng)設(shè)有綠色量子點層(14b),該藍色子像素對應(yīng)設(shè)有藍色量子點層(14c),該紅色量子點層(14a)能激發(fā)出紅光,該綠色量子點層(14b)能激發(fā)出綠光,該藍色量子點層(14c)能激發(fā)出藍光。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置,其特征在于,多個該子像素為透明態(tài)并通過平坦層(13)覆蓋。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





