[發明專利]分配器附件及其用于由激光光刻寫入3D結構的裝置的用途

有效

• 申請號: 201911098492.1
• 申請日: 2019-11-12
• 公開（公告）號: CN111175955B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 于爾克·霍夫曼;索特·托馬斯;林登·克里斯托夫;沙赫·克里斯蒂安
• 申請（專利權）人: 納糯三維科技控股有限公司
• 主分類號: G02B21/02
• 分類號: G02B21/02;G02B21/33;G02B27/00;B29C64/135
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 張莉;葛強

1.一種在用于借助于激光光刻而在光刻流體（22）中寫入三維結構的裝置（10）中使用分配器附件（38）借助于激光光刻而生成三維結構的方法，所述分配器附件（38）是用于顯微鏡物鏡的分配器附件（38），所述光刻流體（22）能夠通過激光照射而固化，

所述裝置（10）包括：

- 用于發射寫入光束（14）的激光光束源（12）；

- 用于接收光刻流體（22）的基板（24）；

- 物鏡（18），所述物鏡（18）用于在所述光刻流體（22）中形成所述寫入光束（14）的聚焦區域（20），所述物鏡（18）包括物鏡外殼（30）和出射透鏡（ 36）;

所述分配器附件（38）包括：

- 分配器外殼（40），所述分配器外殼（40）被設計成放置在所述物鏡（18）上，以使得：在所述物鏡外殼（30）和所述分配器外殼（40）之間形成流體空間（42），并且在所述分配器外殼（40）和所述出射透鏡（36）之間形成輸出間隙（44）；和

- 通入所述流體空間（42）的流體通道（50）；

所述方法包括以下步驟：

- 提供與所述激光光束源（12）配合的光刻流體（22），以使得固化僅在所述聚焦區域（20）中發生并且通過利用多光子過程而發生；

- 通過所述流體通道（50）將所述光刻流體（22）供應到所述流體空間（42）中；

- 通過所述輸出間隙（44）施加一定體積的光刻流體（22）；

- 通過所述物鏡（18）將所述寫入光束（14）引入到所述一定體積的光刻流體（22）中，并借助于多光子過程使所述光刻流體（22）在所述聚焦區域（20）中局部固化以寫入所述三維結構；

- 遠離所述基板（24）的表面移動所述物鏡（18）； 和

- 通過所述輸出間隙（44）連續地補充光刻流體。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，施加步驟被執行為使得：所述光刻流體（22）保持與所述出射透鏡（36）接觸，并且在所述光刻流體（22）與所述出射透鏡（36）接觸的同時，所述寫入光束（14）被引入到所述光刻流體（22）中。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，施加步驟被執行為使得所述光刻流體（22）保持與所述基板（24）以及與所述出射透鏡（36）接觸。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中，提供第一光刻流體（22），通過所述流體通道（50）將所述第一光刻流體（22）供應到所述流體空間（42）中，并且通過所述輸出間隙（44）施加第一體積的所述第一光刻流體（22），

并且其中，在此之后，提供第二光刻流體（22），通過所述流體通道（50）將所述第二光刻流體（22）供應到所述流體空間（42）中，并且，通過所述輸出間隙（44）施加第二體積的所述第二光刻流體（22）。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述第一光刻流體（22）和所述第二光刻流體（22）是具有不同材料特性的不同材料。

6.根據權利要求4所述的方法，其中，在施加所述第一光刻流體（22）之后并且在施加所述第二光刻流體（22）之前，執行如下至少一個步驟：將所述寫入光束（14）引入到所述一定體積的第一光刻流體（22）中，和局部固化所述第一光刻流體（22）。

7.根據權利要求4所述的方法，其中，首先施加所述第一光刻流體（22），并且然后施加所述第二光刻流體（22），并且然后將所述第一光刻流體和所述第二光刻流體混合。

8.根據權利要求1或2所述的方法，其中，在引入所述寫入光束（14）和局部固化所述光刻流體（22）的步驟之后，執行以下步驟：

- 提供顯影劑流體，所述顯影劑流體用于曝光和/或固化寫入的所述三維結構；

- 通過所述流體通道（50）將所述顯影劑流體供應到所述流體空間（42）中；

- 通過所述輸出間隙施加一定體積的顯影劑流體。