[發明專利]回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構及其調節方法

在審

• 申請號: 201911097981.5
• 申請日: 2019-11-12
• 公開（公告）號: CN110708855A
• 公開（公告）日: 2020-01-17
• 發明（設計）人: 趙良超;何小中;馬超凡;龍全紅;楊興林;李洪
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院流體物理研究所
• 主分類號: H05H7/00
• 分類號: H05H7/00;H05H7/08;H05H13/00
• 代理公司: 51274 成都四合天行知識產權代理有限公司
• 代理人: 馮龍;王記明

1.回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構，包括支撐架(10)，其特征在于，所述支撐架(10)中設置有導軌一(3)，支撐架(10)外部安裝有驅動裝置一(1)，且驅動裝置一(1)連接有傳動裝置一(2)，傳動裝置一(2)與導軌一(3)連接，驅動裝置一(1)能夠通過傳動裝置一(2)帶動導軌一(3)沿著其軸線方向移動；所述支撐架(10)固定有用于與加速器外殼固定的法蘭一(5)，導軌一(3)上連接有導軌二(6)，導軌二(6)上設置有法蘭二(9)和驅動裝置二(8)，導軌二設置在法蘭一(5)和法蘭二(9)之間，驅動裝置二(8)連接有傳動裝置二(7)，傳動裝置二(7)與法蘭二(9)連接，且驅動裝置二(8)能夠通過傳動裝置二(7)帶動法蘭二(9)沿著導軌二(6)移動，且法蘭二(9)的移動方向與導軌一(3)的移動方向垂直。

2.根據權利要求1所述的一種回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構，其特征在于，所述導軌二(6)和法蘭一(5)之間設置有波紋管(4)，且波紋管(4)的兩端分別與導軌二(6)和法蘭一(5)無縫連接。

3.根據權利要求2所述的一種回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構，其特征在于，所述導軌二(6)、法蘭一(5)、法蘭二(9)和波紋管(4)均設置在支撐架(10)外部。

4.根據權利要求1所述的一種回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構，其特征在于，所述傳動裝置一(2)為絲杠一，絲杠一的一端與驅動裝置一(1)連接，另一端穿過導軌一3后插入支撐架(10)中，且絲杠一能夠繞著自身軸線轉動。

5.根據權利要求1所述的一種回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構，其特征在于，所述傳動裝置二(7)為絲杠二，絲杠二的一端與驅動裝置二(8)連接，另一端與法蘭二(9)連接，且絲杠二能夠繞著自身軸線轉動。

6.根據權利要求5所述的一種回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構，其特征在于，所述導軌二(6)中設置有導向槽，法蘭二(6)上凸出形成導向塊，導向塊插入導向槽中并且能夠沿著導向槽移動。

7.根據權利要求6所述的一種回旋加速器內剛性離子源的位置調節機構，其特征在于，所述導向槽和絲杠二平行設置。

8.回旋加速器內剛性離子源的位置調節方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)啟動驅動裝置一(1)，帶動傳動裝置一(2)轉動，使得導軌一(3)沿著傳動裝置一(2)的軸線方向移動；

(2)導軌一(3)帶動導軌二(6)沿著傳動裝置一的軸線方向移動，使得波紋管(4)壓縮或者延長，達到需要位置后關閉驅動裝置一(1)；

(3)啟動驅動裝置二(8)，帶動傳動裝置二(7)轉動，使得法蘭二(6)沿著傳動裝置二(7)的軸線方向移動，導向塊沿著導向槽移動，達到需要位置后關閉驅動裝置二(8)。