[發明專利]一種盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置

有效

• 申請號: 201911095501.1
• 申請日: 2019-11-11
• 公開（公告）號: CN111022478B
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發明（設計）人: 方強;王天;黃浦縉;常頌揚;曹玉進;鄭晨績;潘澤民
• 申請（專利權）人: 浙江大學;杭州雷礪自動化科技有限公司
• 主分類號: F16B47/00
• 分類號: F16B47/00
• 代理公司: 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224
• 代理人: 胡紅娟

1.一種盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置，其特征在于，包括定位座，活動安裝在所述定位座上的吸盤，以及調節所述吸盤方向的方向調整單元；

所述方向調整單元包括：

內部中空的吸盤底座，上部安裝有所述的吸盤，底部為一曲面；

襯板，上表面與所述曲面活動貼合，下表面活動貼合在所述定位座上；

中心桿，一端連接在所述吸盤的背面，另一端依次穿過所述吸盤底座、襯板和定位座；所述中心桿上設有整體式的上軸套和分片式的下軸套，所述吸盤的中心設有與所述上軸套氣密配合的第一中心孔，所述定位座設有與所述下軸套氣密配合的第二中心孔；

所述吸盤上設有通氣孔，吸盤與定位座間設有與所述通氣孔連通的真空氣流通道；所述吸盤與所述吸盤底座之間通過螺栓固連，所述吸盤與所述吸盤底座之間設有密封墊圈；所述吸盤的底部設有內凸臺，所述吸盤底座的頂部設有外凸臺，所述密封墊圈為階梯型結構，上下分別與所述內凸臺和所述外凸臺過盈配合。

2.根據權利要求1所述的盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置，其特征在于，所述的吸盤底座的曲面為球面，所述襯板的上表面和下表面均為球面，所述的定位座上具有貼合所述襯板球面的球形凹腔。

3.根據權利要求1所述的盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置，其特征在于，所述的中心桿上設有用于固定所述上軸套的第一限位階梯以及用于固定所述下軸套的第二限位階梯。

4.根據權利要求1所述的盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置，其特征在于，所述的吸盤底座的頂部設有通氣孔，所述吸盤底座的底部設有與所述中心桿間隙配合的第三中心孔，所述的分片式的下軸套具有通氣間隙，所述通氣間隙、所述第三中心孔與所述中心桿之間的間隙、以及所述吸盤底座頂部的通氣孔共同構成所述的真空氣流通道。

5.根據權利要求1所述的盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置，其特征在于，所述的定位座上設有用于固定的切口以及垂直穿過所述切口的通孔。

6.根據權利要求1所述的盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置，其特征在于，所述的吸盤底座的外表面、所述的襯板的內外表面以及所述的定位座貼合所述襯板的上表面均噴涂有氣密涂層。

7.根據權利要求1所述的盤面角度可自適應匹配的真空吸附裝置，其特征在于，所述的中心桿由柔性材料橡膠制成。