[發(fā)明專利]基板保持裝置、基板處理裝置和基板保持方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911086918.1
• 申請(qǐng)日: 2019-11-08
• 公開（公告）號(hào): CN111244020A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 上野幸一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫林集團(tuán)
• 主分類號(hào): H01L21/687
• 分類號(hào): H01L21/687;H01L21/67
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 羅英;臧建明

本發(fā)明的課題在于在不產(chǎn)生起塵且不對(duì)基板導(dǎo)入損傷的情況下，確實(shí)地消除基板的翹曲而良好地保持基板的整個(gè)區(qū)域。一種基板保持裝置，包括自下方支撐基板的平臺(tái)、以及對(duì)支撐于平臺(tái)的基板的翹曲進(jìn)行矯正的矯正機(jī)構(gòu)，所述基板保持裝置利用平臺(tái)來保持由矯正機(jī)構(gòu)矯正了翹曲的基板，其中，矯正機(jī)構(gòu)具有：矯正塊，能夠在基板的上表面的周緣部的上方沿上下方向移動(dòng)；氣體層形成部，自矯正塊的下表面朝向基板的上表面噴出第一氣體，在基板的上表面與矯正塊的下表面之間形成氣體層；以及移動(dòng)部，使矯正塊在與基板保持非接觸狀態(tài)的同時(shí)向下方移動(dòng)，由此將氣體層按壓至周緣部來矯正基板的翹曲。本發(fā)明還涉及一種基板處理裝置和基板保持方法。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種保持液晶顯示裝置或有機(jī)電致發(fā)光(electroluminescence，EL)顯示裝置等的平板顯示屏(flat panel display，F(xiàn)PD)用玻璃基板、半導(dǎo)體晶片(wafer)、光掩模(photomask)用玻璃基板、彩色濾光片(colour filter)用基板、記錄磁盤用基板、太陽電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板、半導(dǎo)體封裝用基板(以下簡稱為“基板”)的技術(shù)，具體涉及一種基板保持裝置、基板處理裝置和基板保持方法。

背景技術(shù)

以前，對(duì)基板進(jìn)行涂布液的涂布等處理的基板處理裝置是在通過基板保持裝置對(duì)基板進(jìn)行了保持的狀態(tài)下執(zhí)行對(duì)基板的處理。例如在專利文獻(xiàn)1中，作為所述基板處理裝置的一例而記載了涂布裝置。所述涂布裝置包括：基板保持裝置，吸附并保持載置于平臺(tái)的上表面的基板的下表面；以及狹縫噴嘴，在與由基板保持裝置所保持的基板的上表面接近的狀態(tài)下，相對(duì)于所述基板沿水平方向相對(duì)移動(dòng)，由此在基板的上表面涂布涂布液。

在所述基板保持裝置中，為了抑制在基板的周緣部附近產(chǎn)生的翹曲的影響，在平臺(tái)的周圍配置有按壓構(gòu)件。而且，在基板的翹曲大的情況下，按壓構(gòu)件對(duì)基板的上表面的周緣部自上方進(jìn)行按壓，來矯正基板的翹曲。因此，可將基板的整個(gè)區(qū)域吸附保持于平臺(tái)上，從而可良好地進(jìn)行涂布處理等基板處理。

[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]

[專利文獻(xiàn)]

[專利文獻(xiàn)1]日本專利特開2013-175622號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

[發(fā)明所要解決的問題]

然而，在所述基板保持裝置中，按壓構(gòu)件與基板的上表面接觸來施加負(fù)荷，因此產(chǎn)生了如下問題。即，有時(shí)會(huì)在基板中的與按壓構(gòu)件物理接觸的部位導(dǎo)入損傷。另外，有因所述接觸而產(chǎn)生灰塵或顆粒等的所謂起塵的問題。

本發(fā)明是鑒于所述課題而完成的，其目的在于提供一種在不產(chǎn)生起塵且不對(duì)基板導(dǎo)入損傷的情況下，確實(shí)地消除基板的翹曲而良好地保持基板的整個(gè)區(qū)域的技術(shù)。

[解決問題的技術(shù)手段]

本發(fā)明的第一方式為一種基板保持裝置，包括：平臺(tái)，自下方支撐基板；以及矯正機(jī)構(gòu)，對(duì)支撐于平臺(tái)的基板的翹曲進(jìn)行矯正，所述基板保持裝置利用平臺(tái)來保持由矯正機(jī)構(gòu)矯正了翹曲的基板，所述基板保持裝置的特征在于，矯正機(jī)構(gòu)具有：矯正塊，能夠在基板的上表面的周緣部的上方沿上下方向移動(dòng)；氣體層形成部，自矯正塊的下表面朝向基板的上表面噴出第一氣體，在基板的上表面與矯正塊的下表面之間形成氣體層；以及移動(dòng)部，使矯正塊在與基板保持非接觸狀態(tài)的同時(shí)向下方移動(dòng)，由此將氣體層按壓至周緣部來矯正基板的翹曲。

本發(fā)明的第二方式為基板處理裝置，包括：所述基板保持裝置、以及朝向由基板保持裝置保持的基板的上表面噴出處理液的噴嘴。

本發(fā)明的第三方式是一種基板保持方法，在矯正了由平臺(tái)自下方支撐的基板的翹曲之后，利用平臺(tái)來保持基板，所述基板保持方法的特征在于，在基板的上表面的周緣部的上方配置矯正塊，自矯正塊的下表面朝向基板的上表面噴出第一氣體，在基板的上表面與矯正塊的下表面之間形成氣體層，使矯正塊在與基板保持非接觸狀態(tài)的同時(shí)向下方移動(dòng)，由此將氣體層按壓至周緣部來矯正基板的翹曲。