[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法、顯示裝置

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• 申請日: 2019-11-06
• 公開（公告）號: CN111223875A
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設計）人: 何昆鵬;任章淳
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L27/32;H01L21/84
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 張曉薇

本發(fā)明提供了一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置。所述顯示面板包括有源層、絕緣層、源極、漏極、柵極以及像素電極。所述源極、漏極和柵極同層設于所述絕緣層上，所述像素電極設于所述源極、漏極和柵極遠離所述絕緣層的一表面上。

技術領域

本發(fā)明涉及顯示設備領域，特別是一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術

OELD(Organic Electroluminesence Display，有機電致發(fā)光顯示)，又稱為OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機電致發(fā)光二極管)顯示裝置，其具有能耗低、亮度高、反應時間快、寬視角、重量輕等優(yōu)點，近來已普遍應用于各種顯示設備中。

由于OLED在顯示的色域、色深、對比度和響應速度等方面都優(yōu)于LCD(LiquidCrystal Display，液晶顯示器)，而且最近已經(jīng)有公司使用蒸鍍WOLED(White OLED，白光OLED)技術量產了大尺寸屏幕，但是由于OLED制作工藝較LCD要復雜很多，OLED膜層更多，良品率提升難度較大，要將這些膜層的圖形化也需要更多的光罩。

在現(xiàn)有技術中的頂柵頂發(fā)射OLED顯示面板中，其通常需要10道左右的光罩才能從基板制作到PDL(Pixel Definition Layer，像素限定層)，不僅制作難度極大，而且每一道光罩制程的成本價格都非常昂貴，所以OLED顯示器的制作成本居高不下。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的是提供一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置，也解決現(xiàn)有技術中頂柵頂發(fā)射結構的顯示面板結構復雜、制程繁瑣、成本高昂、良品率低等問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種顯示面板，所述顯示面板包括有源層、絕緣層、源極、漏極、柵極以及像素電極。其中，所述絕緣層設于所述有源層上。所述源極、漏極和柵極同層設于所述絕緣層上，所述柵極對應于所述有源層，所述源極、漏極分別穿過所述絕緣層連接至所述有源層的兩端。所述像素電極設于所述源極、漏極和柵極遠離所述絕緣層的一表面上。

進一步地，所述顯示面板中還包括像素限定層以及發(fā)光層。所述像素限定層覆于所述像素電極和所述絕緣層上。所述像素限定層中具有開口，所述像素電極部分裸露于所述開口中。所述發(fā)光層設于所述開口內的所述像素電極上。

進一步地，所述顯示面板中還包括封裝層，其覆于所述發(fā)光層和所述像素限定層上。

進一步地，所述顯示面板中還包括緩沖層、基板以及遮光層。所述緩沖層設于所述有源層遠離所述絕緣層的一表面上。所述基板設于所述緩沖層遠離所述有源層的一表面上。所述遮光層設于所述緩沖層和所述基板之間，并對應于所述有源層。

本發(fā)明中還提供一種顯示面板的制備方法，其包括以下步驟：提供一基板。在所述基板上形成有源層。在所述有源層上形成所述絕緣層。在所述緩沖層上形成源極、漏極、柵極以及像素電極。

進一步地，在所述顯示面板的制備方法中還包括以下步驟：在所述像素電極和所述絕緣層上形成像素限定層。在所述像素限定層內形成開口。在所述開口內形成發(fā)光層。

進一步地，在所述顯示面板的制備方法中還包括以下步驟：

在所述發(fā)光層和所述像素限定層上形成封裝層。

進一步地，在提供一基板步驟后還包括一下步驟：在所述基板上形成遮光層。在所述遮光層上形成緩沖層。

進一步地，在所述緩沖層上形成源極、漏極、柵極以及像素電極步驟中包括以下步驟：在所述絕緣層上沉積一金屬材料層。在所述金屬材料層上沉積一導電材料層。通過光刻法同時將所述金屬材料層和所述導電材料層圖案化，形成所述源極、漏極、柵極以及像素電極。

本發(fā)明中還提供一種顯示裝置，其包括如上所述的顯示面板。