[發(fā)明專利]一種坩堝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911077890.5
• 申請(qǐng)日: 2019-11-06
• 公開（公告）號(hào): CN110656370A
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C30B15/10
• 分類號(hào): C30B15/10;C30B29/06
• 代理公司: 11243 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 許靜;胡玉美

本發(fā)明提供一種坩堝，包括：堝體，所述堝體內(nèi)限定有一側(cè)開口的腔室以盛放硅溶液，所述堝體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有多條間隔開分布的凸起條紋，所述凸起條紋沿所述堝體的高度方向傾斜延伸。根據(jù)本發(fā)明的坩堝，堝體內(nèi)限定有一側(cè)開口的腔室以盛放硅溶液，堝體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有多條間隔開分布的凸起條紋，凸起條紋沿堝體的高度方向傾斜延伸。堝體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有多條間隔開分布的凸起條紋，在使用時(shí)，使得凸起條紋部分露出液面，在坩堝轉(zhuǎn)速發(fā)生變化或者液面發(fā)生抖動(dòng)時(shí)，凸起條紋能夠抑制坩堝中溶液的液面抖動(dòng)，壓制液面的波動(dòng)，使得液面快速達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)，避免單晶拉制過程的不穩(wěn)定，提高單晶的拉制效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及硅材料加工領(lǐng)域，具體涉及一種坩堝。

背景技術(shù)

在單晶拉制過程中，需要使用石英坩堝盛裝多晶硅溶液，由于石英坩堝不具有防抖動(dòng)作用，多晶硅溶液的液面在坩堝旋轉(zhuǎn)或拉晶過程中易產(chǎn)生抖動(dòng)，導(dǎo)致單晶拉制過程不穩(wěn)定，影響單晶的拉制效果。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供一種坩堝，用以解決多晶硅溶液的液面在坩堝旋轉(zhuǎn)或拉晶過程中易產(chǎn)生抖動(dòng)，導(dǎo)致單晶拉制過程不穩(wěn)定，影響單晶的拉制效果的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的坩堝，包括：

堝體，所述堝體內(nèi)限定有一側(cè)開口的腔室以盛放硅溶液，所述堝體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有多條間隔開分布的凸起條紋，所述凸起條紋沿所述堝體的高度方向傾斜延伸。

其中，多條所述凸起條紋沿所述堝體的周向均勻間隔開分布。

其中，所述凸起條紋與第一平面之間的夾角為銳角，所述第一平面與所述堝體的軸線垂直。

其中，所述凸起條紋呈弧形狀。

其中，每個(gè)所述凸起條紋在第一平面上的投影分別位于一個(gè)同心圓上，所述第一平面與所述堝體的軸線垂直。

其中，每個(gè)所述凸起條紋在第一平面上的投影的第一端和一側(cè)相鄰的所述凸起條紋在第一平面上的投影部分重合，每個(gè)所述凸起條紋在第一平面上的投影的第二端和另一側(cè)相鄰的所述凸起條紋在第一平面上的投影部分重合。

其中，多個(gè)所述凸起條紋在第一平面上的投影分別沿所述同心圓的周向均勻間隔開分布。

其中，所述堝體的內(nèi)側(cè)壁上位于相鄰兩條所述凸起條紋之間的位置分別設(shè)有多個(gè)凸臺(tái)。

其中，多個(gè)所述凸臺(tái)沿所述堝體的內(nèi)側(cè)壁均勻間隔開分布。

其中，所述凸臺(tái)在垂直于內(nèi)側(cè)壁方向上的高度小于所述凸起條紋在垂直于內(nèi)側(cè)壁方向上的高度。

本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下：

根據(jù)本發(fā)明的坩堝，堝體內(nèi)限定有一側(cè)開口的腔室以盛放硅溶液，堝體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有多條間隔開分布的凸起條紋，凸起條紋沿堝體的高度方向傾斜延伸。堝體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有多條間隔開分布的凸起條紋，在使用時(shí)，使得凸起條紋部分露出液面，在坩堝轉(zhuǎn)速發(fā)生變化或者液面發(fā)生抖動(dòng)時(shí)，凸起條紋能夠抑制坩堝中溶液的液面抖動(dòng)，壓制液面的波動(dòng)，使得液面快速達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)，避免單晶拉制過程的不穩(wěn)定，提高單晶的拉制效果。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例的坩堝的一個(gè)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例的坩堝的一個(gè)局部示意圖；

圖3為利用模板在坩堝的內(nèi)側(cè)壁上形成凸臺(tái)時(shí)的一個(gè)示意圖；

圖4為利用模板在坩堝的內(nèi)側(cè)壁上形成凸臺(tái)后的一個(gè)示意圖。

附圖標(biāo)記

堝體10；腔室11；凸起條紋12；凸臺(tái)13；