[發明專利]特征圖處理方法、裝置、電子設備及存儲介質有效
| 申請號: | 201911067692.0 | 申請日: | 2019-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN111027670B | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發明(設計)人: | 賈琳;趙磊 | 申請(專利權)人: | 重慶特斯聯智慧科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G06N3/04 | 分類號: | G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 北京辰權知識產權代理有限公司 11619 | 代理人: | 劉廣達 |
| 地址: | 400042 重慶*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 特征 處理 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種特征圖處理方法,其特征在于,包括:
對原始圖像進行卷積處理,得到對應的特征圖;
對輸入特征圖進行全局池化處理,用得到的池化值構建通道維度向量;
使用若干不同尺寸的一維卷積核分別處理所述通道維度向量,得到若干一維向量;
將所述若干一維向量相加,以相加得到的和作為所述輸入特征圖的最終通道維度向量;
歸一化所述最終通道維度向量,得到對應于每個所述輸入特征圖的權重因子;
將所述權重因子與所對應的輸入特征圖相乘,得到特征增強后的輸出特征圖。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述全局池化處理為全局平均池化處理或全局最大池化處理。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述使用若干不同尺寸的一維卷積核分別處理所述通道維度向量,得到若干一維向量,包括:
當所述一維卷積核的尺寸與步長與所述通道維度向量不匹配,導致所述一維卷積核不能實現對所述通道維度向量的所有元素的遍歷時,則在卷積處理過程中對所述通道維度向量進行邊界填充,使所述通道維度向量的所有元素均能夠被所述一維卷積核遍歷。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述對所述通道維度向量進行邊界填充,包括:采用1、2或4的邊界填充值對所述通道維度向量進行邊界填充。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述歸一化所述最終通道維度向量,包括:用Sigmoid激活函數、tanh函數或ReLu函數歸一化所述最終通道維度向量。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述若干不同尺寸的一維卷積核包括三個尺寸分別為1×3、1×5和1×9的卷積核。
7.一種特征圖處理裝置,其特征在于,包括:
原始圖像卷積處理模塊,用于對原始圖像進行卷積處理,得到對應的特征圖;
池化模塊,用于對輸入特征圖進行全局池化處理,用得到的池化值構建通道維度向量;
卷積模塊,用于使用若干不同尺寸的一維卷積核分別處理所述通道維度向量,得到若干一維向量;
匯總模塊,用于將所述若干一維向量相加,以相加得到的和作為所述輸入特征圖的最終通道維度向量;
歸一化模塊,用于歸一化所述最終通道維度向量,得到對應于每個所述輸入特征圖的權重因子;
相乘模塊,將所述權重因子與所對應的輸入特征圖相乘,得到特征增強后的輸出特征圖。
8.根據權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述卷積模塊包括填充模塊,所述填充模塊用于當所述一維卷積核的尺寸與步長與所述通道維度向量不匹配,導致所述一維卷積核不能實現對所述通道維度向量的所有元素的遍歷時,則在卷積處理過程中對所述通道維度向量進行邊界填充,使所述通道維度向量的所有元素均能夠被所述一維卷積核遍歷。
9.一種電子設備,其特征在于,包括存儲器、處理器及存儲在所述存儲器上并可在所述處理器上運行的計算機程序,所述處理器執行所述程序,以實現如權利要求1-6中任一所述的特征圖處理方法。
10.一種非臨時性計算機可讀存儲介質,其上存儲有計算機程序,其特征在于,該程序被處理器執行,以實現如權利要求1-6中任一所述的特征圖處理方法。
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