[發(fā)明專利]形變場確定方法、確定裝置、終端設(shè)備及可讀存儲介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911060305.0
• 申請日: 2019-11-01
• 公開（公告）號: CN110827334B
• 公開（公告）日: 2023-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 彭冬煒
• 申請（專利權(quán)）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: G06T7/33
• 分類號: G06T7/33;G06V10/46
• 代理公司: 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414
• 代理人: 李娟

1.一種用于圖像配準(zhǔn)的形變場確定方法，其特征在于，包括：

獲取待配準(zhǔn)的第一圖像以及第二圖像，并初始化待確定的形變場V，所述第一圖像是與第二圖像存在映射關(guān)系的圖像；

將所述第一圖像以及所述第二圖像進(jìn)行特征點(diǎn)匹配，得到M組匹配的特征點(diǎn)對{x_1i，x_2i}，其中，x_1i為位于所述第一圖像中特征點(diǎn)的位置，x_2i為位于所述第二圖像中且與x_1i相匹配的特征點(diǎn)的位置，M為大于0的整數(shù)，i＝1、2…M；

對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，其中，所述目標(biāo)函數(shù)F(V)正相關(guān)于各個||x_1i+V(x_1i)-x_2i||²的值，其中，x_1i+V(x_1i)為x_1i經(jīng)過形變場V修正后的位置，||x_1i+V(x_1i)-x_2i||²為x_1i經(jīng)過形變場V修正后的位置與x_2i的歐式距離；

所述將所述第一圖像以及所述第二圖像進(jìn)行特征點(diǎn)匹配，得到M組匹配的特征點(diǎn)對{x_1i，x_2i}，包括：

分別對所述第一圖像以及所述第二圖像進(jìn)行特征點(diǎn)提取，得到位于所述第一圖像中的N個第一特征點(diǎn)以及位于所述第二圖像中的N個第二特征點(diǎn)，所述N為大于1的整數(shù)且N大于或等于M；

對于每個第一特征點(diǎn)，計算該第一特征點(diǎn)與各個第二特征點(diǎn)之間的描述子距離，得到該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的最小描述子距離以及次小描述子距離，并將與該第一特征點(diǎn)描述子距離最小的第二特征點(diǎn)確定為與該第一特征點(diǎn)準(zhǔn)匹配的第二特征點(diǎn)；

對于每個第一特征點(diǎn)，計算該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的匹配誤差，其中，該匹配誤差正相關(guān)與該第一特征點(diǎn)所對應(yīng)的最小描述子距離，反相關(guān)于該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的次小描述子距離；

對各個第一特征點(diǎn)分別對應(yīng)的匹配誤差進(jìn)行排序，將匹配誤差最小的M個第一特征點(diǎn)確定為x_1i，并將匹配誤差最小的M個第一特征點(diǎn)分別對應(yīng)的準(zhǔn)匹配的第二特征點(diǎn)確定為x_2i；

在所述對于每個第一特征點(diǎn)，計算該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的匹配誤差的步驟之前，還包括：

對于每個第一特征點(diǎn)，確定該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的歐式距離，該歐式距離為該第一特征點(diǎn)準(zhǔn)匹配的第二特征點(diǎn)與修正點(diǎn)的歐式距離，該修正點(diǎn)為該第一特征點(diǎn)經(jīng)過形變場V修正后得到的點(diǎn)；

相應(yīng)地，所述對于每個第一特征點(diǎn)，計算該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的匹配誤差，包括：

對于每個第一特征點(diǎn)，計算該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的匹配誤差，其中，該匹配誤差正相關(guān)與該第一特征點(diǎn)所對應(yīng)的最小描述子距離以及該第一特征點(diǎn)所對應(yīng)的歐式距離，反相關(guān)于該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的次小描述子距離；

相應(yīng)地，所述對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，包括：

對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，且每次迭代時，根據(jù)當(dāng)前迭代得到的形變場V重新確定M組特征點(diǎn)對；

所述對于每個第一特征點(diǎn)，計算該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的匹配誤差，其中，該匹配誤差正相關(guān)與該第一特征點(diǎn)所對應(yīng)的最小描述子距離以及該第一特征點(diǎn)所對應(yīng)的歐式距離，反相關(guān)于該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的次小描述子距離，包括：

對于每個第一特征點(diǎn)，計算該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的匹配誤差，其中，該匹配誤差正相關(guān)與該第一特征點(diǎn)所對應(yīng)的最小描述子距離以及λ倍的該第一特征點(diǎn)所對應(yīng)的歐式距離，反相關(guān)于該第一特征點(diǎn)對應(yīng)的次小描述子距離；

相應(yīng)地，所述對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，且每次迭代時，根據(jù)當(dāng)前迭代得到的形變場V重新確定M組特征點(diǎn)對，包括：

對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，且每次迭代時，增大所述λ的值，并根據(jù)增大后的λ和當(dāng)前迭代得到的形變場V重新確定M組特征點(diǎn)對；

所述對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，且每次迭代時，增大所述λ的值，并根據(jù)增大后的λ和當(dāng)前迭代得到的形變場V重新確定M組特征點(diǎn)對，包括：

對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，且每次迭代時，增大所述λ的值且增大所述M的值，并根據(jù)增大后的λ、當(dāng)前迭代得到的形變場V以及增大后的M重新確定M組特征點(diǎn)對；

所述目標(biāo)函數(shù)F(V)正相關(guān)于各個λ₁倍的||x_1i+V(x_1i)-x_2i||²；

相應(yīng)地，所述對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，且每次迭代時，增大所述λ的值且增大所述M的值，并根據(jù)增大后的λ、當(dāng)前迭代得到的形變場V以及增大后的M重新確定M組特征點(diǎn)對，包括：

對所述形變場V進(jìn)行迭代運(yùn)算，迭代次數(shù)為K，以得到使目標(biāo)函數(shù)F(V)最小時的形變場V，且每次迭代時，增大所述λ的值且增大所述M的值，然后根據(jù)增大后的λ、當(dāng)前迭代得到的形變場V以及增大后的M重新確定M組特征點(diǎn)對，并在每次迭代時，減小所述目標(biāo)函數(shù)F(V)中λ₁的值；

所述目標(biāo)函數(shù)F(V)為：

x_1i為位于第一圖像中特征點(diǎn)的位置，x_2i為位于第二圖像中且與x_1i相匹配的特征點(diǎn)的位置，A(x_1i)為第一圖像中x_1i的像素值，x_1i+V(x_1i)是根據(jù)初始化的形變場V對該第一特征點(diǎn)進(jìn)行修正，得到修正點(diǎn)，B(x_1i+V(x_1i))為第二圖像中x_1i+V(x_1i)處的像素值，正向則是形變場V中各元素的平方和，并對該平方和執(zhí)行開根號運(yùn)算，λ₁為大于0的正數(shù)，||x_1i+V(x_1i)-x_2i||²是修正點(diǎn)與準(zhǔn)匹配的第二特征點(diǎn)之間的歐式距離。