[發(fā)明專利]快速涂布的涂布機(jī)結(jié)構(gòu)及其涂布劑的溫控及陣列涂布模塊

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911047916.1
• 申請(qǐng)日: 2019-10-30
• 公開（公告）號(hào): CN112742664A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳茂全;廖崇文;蘇啟郎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 聚昌科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B05C5/02
• 分類號(hào): B05C5/02;B05C11/10
• 代理公司: 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張琳

1.一種快速涂布的涂布機(jī)結(jié)構(gòu)，其特征在于其包括：

晶圓載盤；以及

快速涂布模塊，其設(shè)置于該晶圓載盤的上方處，該快速涂布模塊包括：

涂布劑溫控模塊，其包括：

第一輸送管，其具有第一輸入口及第一輸出口；及

第二輸送管，包覆且互不連通的設(shè)置于該第一輸送管的外圍，又該第二輸送管具有第二輸入口及第二輸出口；及

陣列涂布模塊，其包括：

涂布本體，其為殼體；

進(jìn)料通道，與該第一輸出口相連通并形成于該涂布本體的一側(cè)；

橫向流道，其是形成于該涂布本體內(nèi)并在該進(jìn)料通道相連通；及

多個(gè)涂布嘴，與該橫向流道相連通且形成于該涂布本體的另一側(cè)，又所述涂布嘴用以對(duì)該晶圓載盤上的晶圓片進(jìn)行涂布劑涂布作業(yè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影機(jī)結(jié)構(gòu)構(gòu)，其特征在于：其中該第一輸送管為涂布劑輸送管。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影機(jī)結(jié)構(gòu)構(gòu)，其特征在于：其中該第二輸送管為溫控介質(zhì)輸送管。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影機(jī)結(jié)構(gòu)構(gòu)，其特征在于：其中該進(jìn)料通道與所述涂布嘴間設(shè)有隔板，且該隔板具有多個(gè)穿孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影機(jī)結(jié)構(gòu)構(gòu)，其特征在于：其中所述涂布嘴是以一維陣列方式排列。

6.一種涂布劑的溫控模塊，其特征在于其包括：

第一輸送管，其具有第一輸入口及第一輸出口，該第一輸送管用以輸送涂布劑；以及

第二輸送管，包覆且互不連通的設(shè)置于該第一輸送管的外圍，且具有第二輸入口及第二輸出口，該第二輸送管用以輸送溫控介質(zhì)。

7.一種陣列涂布模塊，其特征在于其包括：

涂布本體，其為殼體；

進(jìn)料通道，形成于該涂布本體的一側(cè)；

橫向流道，其是形成于該涂布本體內(nèi)并在該進(jìn)料通道相連通；以及

多個(gè)涂布嘴，與該橫向流道相連通且形成于該涂布本體的另一側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列涂布模塊，其特征在于：其中該橫向流道可進(jìn)一步設(shè)有橫向隔板，且該橫向隔板具有多個(gè)穿孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列涂布模塊，其特征在于：其具有至少一個(gè)透氣孔，其是設(shè)于該橫向流道的上方側(cè)，且與該橫向流道連通又貫穿該涂布本體。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列涂布模塊，其特征在于：其中所述涂布嘴是以一維陣列方式排列。