[發明專利]改善金屬鑄造模具脫模效果的方法無效
| 申請號： | 201210288722.2 | 申請日： | 2012-08-15 |
| 公開（公告）號： | CN102773407A | 公開（公告）日： | 2012-11-14 |
| 發明（設計）人： | 李志偉;楊偉仁 | 申請（專利權）人： | 明志科技大學 |
| 主分類號： | B22C3/00 | 分類號： | B22C3/00;C23C14/06;C23C16/22 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 中國臺灣新*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 改善 金屬 鑄造 模具 脫模 效果 方法 | ||
1.一種鑄造金屬固體的方法，系包括：
鍍上一離型劑層于一鑄造模具的至少一模穴的表面；
注入一待處理的熔融態金屬液體于該鑄造模具的模穴內；
冷卻該鑄造模具的模穴內的熔融態金屬液體，以凝固為該金屬固體；以及
自該鑄造模具的模穴脫模取出該金屬固體。
2.如權利要求1所述的方法，其中該離型劑層系為一硅層、一硼層、一氮化硅層、一氮化硼層或此等任一組合。
3.如權利要求1所述的方法，其中該離型劑層的厚度系為10nm-100μm。
4.如權利要求1所述的方法，其中該離型劑層系使用化學氣相沉積法（Chemical?vapor?deposition，CVD）或物理氣相沉積法（Physical?vapor?deposition，PVD）被鍍于該鑄造模具的模穴的表面。
5.如權利要求2所述的方法，其中該硅層或該氮化硅層系使用化學氣相沉積法被鍍于該鑄造模具的模穴的表面，該化學氣相沉積法系使用包含氫氣及含硅氣體的反應氣體。
6.如權利要求2所述的方法，其中該硅層或該氮化硅層系使用物理氣相沉積法被鍍于該鑄造模具的模穴的表面，該物理氣相沉積法系采用包含硅及含硅化合物的靶材，并使用包含含硅氣體、氮氣及氬氣的反應氣體。
7.如權利要求2所述的方法，其中該硼層或該氮化硼層系使用化學氣相沉積法被鍍于該鑄造模具的模穴的表面，該化學氣相沉積法系使用包含氫氣及含硼氣體的反應氣體。
8.如權利要求2所述的方法，其中該硼層或該氮化硼層系使用物理氣相沉積法被鍍于該鑄造模具的模穴的表面，該物理氣相沉積法系采用包含硼及含硼化合物的靶材，并使用包含含硼氣體、氮氣及氬氣的反應氣體。
9.如權利要求1所述的方法，其中該鑄造模具的材質系為生鐵、合金鋼、碳鋼或不銹鋼。
10.如權利要求1所述的方法，其中該熔融態金屬液體的來源系為金、銀、銅、錫、鋁、鋅、鉛或此等金屬任一組合的合金。
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