[發(fā)明專(zhuān)利]一種紅外傳感器及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911041218.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110729348B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 婁正;沈國(guó)震;冉文浩;魏鐘鳴;趙淑芳;王得鵬;尹瑞陽(yáng) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/06 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/06;H01L29/41;H01L29/417;H01L31/101;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王中葦 |
| 地址: | 100083 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 紅外傳感器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種傳感器,其特征在于,包括:晶體管(1),光電探測(cè)器(2),參考電阻(3)以及襯底(4);晶體管(1)包括第一源極(7),第一漏極(8)以及第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線(9),第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線(9)與第一源極(7)與第一漏極(8)連接;光電探測(cè)器(2)包括第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線(10),第二源極(11)以及第二漏極(12),第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線(10)與第二源極(11)與第二漏極(12)連接;參考電阻(3)包括第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線(10),第三源極(13)以及第三漏極(14),第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線(10)與第三源極(13)與第三漏極(14)連接。該傳感器用于解決暗電流過(guò)大、光電流過(guò)小的問(wèn)題,顯著增強(qiáng)開(kāi)關(guān)比。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于柔性電子器件領(lǐng)域和光電探測(cè)器領(lǐng)域,具體涉及一種紅外傳感器的研制及制備方法。
背景技術(shù)
光通信技術(shù)為信息化技術(shù)中的重中之重,光通信技術(shù)具有保密性高、防干擾、傳輸距離遠(yuǎn)等優(yōu)點(diǎn)。光電探測(cè)器是光通信系統(tǒng)中最基本的器件之一,然而,現(xiàn)在的光電探測(cè)器,無(wú)論是一維材料、二維材料亦或是有機(jī)材料,均存在暗電流較大,使得器件的開(kāi)關(guān)比比較低,從而光電流和暗電流的區(qū)分度不高的問(wèn)題。
在前人的研究工作中,傳統(tǒng)的紅外光電探測(cè)器主要是在硅襯底上制作,無(wú)法彎折,無(wú)法滿(mǎn)足柔性化、可穿戴和便攜化的要求。因此,本領(lǐng)域的技術(shù)人員采用了一維的無(wú)機(jī)納米線作為半導(dǎo)體層得到紅外光電探測(cè)器,其開(kāi)關(guān)比僅為2倍或者不到2倍,在如此低的開(kāi)關(guān)比下,當(dāng)實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景中存在噪聲等干擾、以及器件穩(wěn)定性的限制時(shí),使其在傳輸過(guò)程中出現(xiàn)誤碼,信息傳遞可靠性降低,基本無(wú)法使用。在另一研究工作中,本領(lǐng)域的技術(shù)人員采用了有機(jī)物制造光電探測(cè)器,但存在著工作壽命低,對(duì)制備的環(huán)境要求苛刻且易于受到環(huán)境影響,制備的光電探測(cè)器尺寸過(guò)大等問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明提供了一種紅外傳感器及其制備方法,用于至少部分解決暗電傳感器暗電流過(guò)大、開(kāi)關(guān)比過(guò)低等問(wèn)題。
(二)技術(shù)方案
本發(fā)明提供了一種傳感器,其特征在于,包括:晶體管1、光電探測(cè)器2、參考電阻3以及襯底4;晶體管1包括柵極5、絕緣層6、第一源極7、第一漏極8以及第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線9;第一源極7及第一漏極8設(shè)置于襯底4上,第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線9與第一源極7、第一漏極8連接,絕緣層6設(shè)置于第一源極7、第一漏極8以及第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線9上,柵極5設(shè)置于絕緣層6上;光電探測(cè)器2包括第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線10,第二源極11以及第二漏極12;第二源極11以及第二漏極12設(shè)置于襯底4上,第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線10與第二源極11、第二漏極12連接;參考電阻3包括第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線10,第三源極13以及第三漏極14;第三源極13以及第三漏極14設(shè)置于襯底4上,第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線10與第三源極13、第三漏極14連接;第二漏極12、第三漏極14與柵極5連接;其中,第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線9的禁帶寬度大于第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線10的禁帶寬度。
可選地,第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線9的禁帶寬度大于等于2.3eV;第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線10的禁帶寬度小于0.26eV。
可選地,第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線9為氧化銦、氧化鎵、氧化鋅、氧化鋼鎵、以及鋼鎵鋅氧中的至少一種。
可選地,第二無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線10材料為硫硒鉍。
可選地,第一無(wú)機(jī)半導(dǎo)體納米線9與絕緣層6接觸面的面積小于柵極5與絕緣層6接觸面的面積。
可選地,柵極5與絕緣層6接觸面的面積小于絕緣層6與柵極5接觸面的面積。
可選地,襯底4為可彎曲的柔性襯底。
本發(fā)明還提供了一種器件,該器件包括多個(gè)上述傳感器,多個(gè)傳感器之間通過(guò)第二漏極11,柵極5以及第三漏極14相互連接。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
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H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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