[發明專利]陣列透鏡、透鏡天線和電子設備

有效

• 申請號: 201911040098.2
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN110943302B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 楊帆
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: H01Q15/02
• 分類號: H01Q15/02;H01Q19/06;H01Q21/08;H01Q3/24;H01Q1/22;H01Q1/24
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 熊文杰

1.一種陣列透鏡，其特征在于，包括：

至少一介質層；

至少兩層陣列結構，所述介質層與所述陣列結構沿第一方向交替層疊設置；每一層所述陣列結構開設有至少兩個呈陣列設置的縫隙單元，所述縫隙單元包括閉口環縫隙和開口環縫隙，所述閉口環縫隙環繞所述開口環縫隙設置，在至少兩層陣列結構位于同一相對位置的至少兩個所述開口環縫隙在所述第一方向上同軸設置；其中，

每一層所述陣列結構中的至少兩個所述開口環縫隙呈二維陣列，所述二維陣列的陣列方向包括行方向和列方向，同一所述陣列結構中，至少兩個所述開口環縫隙的開口尺寸由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對稱增加。

2.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，至少兩個所述開口環縫隙在所述行方向的開口尺寸在所述列方向的開口尺寸相同。

3.根據權利要求2所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，至少兩個所述開口環縫隙在所述行方向上具有漸變的開口尺寸和漸變的縫寬尺寸，且至少兩個所述開口環縫隙在所述列方向的開口尺寸和縫寬尺寸相同。

4.根據權利要求2所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，至少兩個所述開口環縫隙在所述行方向上具有漸變的開口尺寸，且至少兩個所述開口環縫隙在所述列方向的開口尺寸相同，且具有漸變的縫寬尺寸。

5.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，至少兩個所述開口環縫隙在所述列方向具有漸變的開口尺寸。

6.根據權利要求5所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，至少兩個所述開口環縫隙在所述行方向的開口尺寸由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對稱增加；至少兩個所述開口環縫隙的所述開口尺寸在所述列方向上由所述二維陣列的第二中心線向陣列邊緣對稱增加。

7.根據權利要求1或5所述的陣列透鏡，其特征在于，所述開口尺寸包括開口角度，所述開口角度在陣列方向上具有漸變規律，若任一所述開口環縫隙的開口角度大于預設角度時，將所述開口環縫隙替換為第一預設開口環縫隙，位于所述陣列方向上的剩余開口環縫隙在所述第一預設開口環縫隙的基礎上具有所述漸變規律，若剩余開口環縫隙的開口角度大于預設角度時，將對應的所述開口環縫隙替換為第二預設開口環縫隙；其中，將位于陣列中心的開口環縫隙進行垂直翻轉以形成所述第一預設開口環縫隙，將位于陣列中心的開口環縫隙定義為第二預設開口環縫隙。

8.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，多層所述陣列結構中同軸設置的至少兩個所述開口環縫隙在第一方向上具有漸變的縫寬尺寸。

9.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，在所述陣列方向上，相鄰兩個所述開口環縫隙的中心距離相等。

10.一種透鏡天線，其特征在于，包括：

饋源陣列，所述饋源陣列包括至少兩個饋源單元；

與所述饋源陣列平行設置的如權利要求1-9任一所述的陣列透鏡。

11.根據權利要求10所述的透鏡天線，其特征在于，所述透鏡天線還包括平行設置的第一隔離板和第二隔離板，所述饋源陣列和所述透鏡設置在所述第一隔離板和第二隔離板之間。

12.一種電子設備，其特征在于，包括如權利要求10～11任一項所述的透鏡天線。

13.根據權利要求12所述的電子設備，其特征在于，所述電子設備還包括：

檢測模塊，用于獲取每個所述饋源單元處于工作狀態時所述透鏡天線的波束信號強度；

開關模塊，與所述饋源陣列連接，用于選擇導通與任一所述饋源單元的連接通路；

控制模塊，分別與所述檢測模塊、所述開關模塊連接，用于根據所述波束信號強度控制所述開關模塊，使最強波束信號強度對應的所述饋源單元處于工作狀態。

14.根據權利要求12所述的電子設備，其特征在于，所述透鏡天線的數量為多個。