[發明專利]基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計

有效

• 申請號: 201911039598.4
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN110779637B
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: 曾煉;劉靜;黃青丹;王勇;張亞茹;宋浩永;饒銳;趙崇智;李助亞;廖偉杰;陳于晴
• 申請（專利權）人: 廣東電網有限責任公司廣州供電局
• 主分類號: G01K17/00
• 分類號: G01K17/00;G01K19/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 羅佳龍

1.一種基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，包括基底、多個薄膜、多個導電件、多個導線及兩個磁性件，各所述薄膜分別設置于所述基底的其中一面，每一所述薄膜上分別設置有兩個所述導電件，每一所述導線的一端與一所述導電件連接，各所述導線的遠離所述導電件的一端用于分別與電數據采集組件連接，兩個所述磁性件分別設置于所述基底朝向所述薄膜的一面，兩個所述磁性件圍繞各所述薄膜設置，且兩個所述磁性件對應設置。

2.根據權利要求1所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，還包括轉移帶和固定架，所述基底通過所述轉移帶與所述固定架粘接。

3.根據權利要求1所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，還包括屏蔽罩，所述屏蔽罩包裹所述基底設置。

4.根據權利要求1所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，還包括擋板，所述擋板設置于所述基底朝向所述薄膜的一面，且所述擋板圍繞于所述薄膜的外側設置。

5.根據權利要求1所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，還包括電數據采集組件，各所述導線的遠離所述導電件的一端分別與電數據采集組件連接。

6.根據權利要求1所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，各所述薄膜呈矩形陣列設置于所述基底上。

7.根據權利要求1所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，所述導線遠離所述導電件的一端用于穿過所述基底設置。

8.根據權利要求1-7任一項中所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，所述磁性件為永磁體。

9.根據權利要求1-7任一項中所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，所述導電件的材料包括銀。

10.根據權利要求1-7任一項中所述的基于金屬薄膜熱效應的等離子體輻射能量測量薄膜量熱計，其特征在于，所述薄膜的材料包括鎳。