[發明專利]一種電化學拋光裝置及方法在審
| 申請號： | 201911035459.4 | 申請日： | 2019-10-29 |
| 公開（公告）號： | CN110670117A | 公開（公告）日： | 2020-01-10 |
| 發明（設計）人： | 范峰;許寶霞;蔡傳兵;郭艷群;豆文芝;嚴云濤 | 申請（專利權）人： | 上海上創超導科技有限公司 |
| 主分類號： | C25F3/22 | 分類號： | C25F3/22;C25F7/00 |
| 代理公司： | 31113 上海浦東良風專利代理有限責任公司 | 代理人： | 張勁風 |
| 地址： | 201400 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 金屬基帶 導流板 槽體 電化學拋光裝置 側封板 電解槽 拋光液 電化學拋光 并排設置 槽體中間 橫向穿越 兩端封板 拋光工藝 同一軸線 不均勻 低能耗 電流場 負電極 高效率 進液口 流動孔 排液口 預清洗 正電極 拋光 穿設 封板 兩組 出口 配方 清洗 分割 生產 | ||
1.一種電化學拋光裝置，其特征是：包括橫向穿設于槽體的三個電解槽，槽體兩端封板設有金屬基帶入口和金屬基帶出口，三個電解槽由并排設置的兩組導流板腔分割而成，兩個導流板腔之間留有金屬基帶通道，金屬基帶入口、金屬基帶通道、金屬基帶出口在同一軸線上，導流板腔底部設有進液口，導流板腔封板上設有流動孔，導流板腔位于槽體側封板下部設有排液口，槽體兩端設有正電極，槽體中間側封板上設有負電極，金屬基帶橫向穿越槽體。
2.根據權利要求1所述的一種電化學拋光裝置，其特征是：第二個電解池為拋光池，位于所述拋光池的負電極極板縱向長度大于拋光池槽體的長度。
3.根據權利要求1所述的一種電化學拋光裝置，其特征是：負電極極板的橫向寬度與待拋光金屬基帶的寬度比=1.4-1.8。
4.根據權利要求1所述的一種電化學拋光裝置，其特征是：兩個負電極極板之間的間距2-5cm。
5.一種利用權利要求1所述電化學拋光裝置進行電化學拋光方法，其特征是：包括以下步驟：1）配制拋光溶液2）金屬基帶拋光前的預清洗；3在拋光池對金屬基帶進行電化學拋光；4）金屬基帶拋光后的清洗。
6.根據權利要求5所述的電化學拋光方法，其特征是：所述步驟1具體為：配方重量百分比為濃硫酸：磷酸：甘油：水：糖精鈉=（26-35）：（56-65）：（2-4）：（2-4）：（0.01-1）。
7.根據權利要求5所述的電化學拋光方法，其特征是：所述步驟2具體為：先清洗去除表面油污，然后超聲波清洗去除表面油污和附著顆粒，之后去離子水清洗表面去除雜質。
8.根據權利要求5所述的電化學拋光方法，其特征是：所述步驟3具體為：拋光電流密度在(0.3-0.7) A/cm2，拋光液溫度50-80℃，拋光時間（22-57）s。
9.根據權利要求5所述的電化學拋光方法，其特征是：所述步驟4具體為：酸漂洗，中和反應清洗，去離子水清洗，超聲波清洗，去離子水清洗，去離子水清洗，去離子水清洗，超聲波清洗，去離子水清洗，吹干，烘干。
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