[發(fā)明專利]一種顯示裝置、顯示基板及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911030502.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110752234B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宮奎;段獻(xiàn)學(xué);張志海;劉天真;崔海峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示裝置 顯示 及其 制備 方法 | ||
一種顯示裝置、顯示基板及其制備方法,涉及顯示裝置技術(shù)領(lǐng)域,所述顯示基板包括:基底;驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層設(shè)置在所述基底上,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層包括薄膜晶體管;像素界定層,所述像素界定層設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層背離所述基底的一側(cè),所述像素界定層中含有紫外光屏蔽材料。本申請(qǐng)的顯示基板,像素界定層中含有紫外光屏蔽材料,可防止顯示基板制備過(guò)程中紫外光對(duì)薄膜晶體管的性能造成影響,從而在薄膜封裝過(guò)程中無(wú)需使用專門制作的UV掩膜版,減少了工藝制程,節(jié)省了成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示裝置技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種顯示裝置、顯示基板及其制備方法。
背景技術(shù)
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)近年來(lái)在顯示以及照明技術(shù)領(lǐng)域中逐漸發(fā)展起來(lái),尤其是在顯示領(lǐng)域,由于其具有高響應(yīng)、高對(duì)比度、可柔性化等優(yōu)點(diǎn),擁有廣泛的應(yīng)用前景。但是由于OLED器件在水汽和氧氣的作用下,會(huì)出現(xiàn)腐蝕損壞的現(xiàn)象,因此選擇較好的封裝方式對(duì)OLED器件來(lái)說(shuō)尤為重要。目前,薄膜封裝是一種廣泛應(yīng)用在OLED顯示基板制作中的封裝方式,但是該封裝方式仍存在不足之處,限制了OLED顯示基板的普及。
目前,對(duì)顯示基板進(jìn)行薄膜封裝的方式通常為采用無(wú)機(jī)層和有機(jī)層堆疊的薄膜封裝結(jié)構(gòu)對(duì)OLED器件進(jìn)行覆蓋,以達(dá)到阻隔水氧的目的。其中依靠無(wú)機(jī)層進(jìn)行水氧阻隔,依靠有機(jī)層進(jìn)行應(yīng)力釋放和平坦化等。有機(jī)層制作通常采用噴墨打印工藝,將液態(tài)單體類有機(jī)物打印在無(wú)機(jī)封裝層的表面,經(jīng)過(guò)紫外(UV)光照射成為固態(tài)鏈狀聚合物。但是,在大尺寸OLED顯示基板的制作過(guò)程中,采用UV光照射會(huì)對(duì)顯示基板底部的薄膜晶體管(TFT)(尤其是TFT中氧化物半導(dǎo)體有源層)造成影響,使其電子遷移率漂移,性能降低,因此要對(duì)薄弱部位進(jìn)行掩膜版遮擋,而UV掩膜版造價(jià)高昂,掩膜版的圖案一旦變化就要重新制作,大大增加生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:上述現(xiàn)有顯示基板制備過(guò)程因采用UV掩膜版導(dǎo)致生產(chǎn)成本增加的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本申請(qǐng)的一實(shí)施例提供一種顯示基板,包括:
基底;
驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層設(shè)置在所述基底上,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層包括薄膜晶體管;
像素界定層,所述像素界定層設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層背離所述基底的一側(cè),所述像素界定層中含有紫外光屏蔽材料。
可選地,所述紫外光屏蔽材料包括納米氧化鋅顆粒或/和納米二氧化硅顆粒。
可選地,所述紫外光屏蔽材料分散在所述像素界定層的基材中,所述像素界定層的基材包括有機(jī)硅樹(shù)脂或/和丙烯酸樹(shù)脂。
可選地,所述像素界定層包括開(kāi)口區(qū)域和像素界定區(qū)域,所述像素界定區(qū)域在所述基底上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管的有源層在基底上的正投影。
可選地,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層還包括柵線和數(shù)據(jù)線,所述像素界定區(qū)域在所述基底上的正投影還覆蓋所述柵線和所述數(shù)據(jù)線在基底上的正投影。
本申請(qǐng)另一實(shí)施例提供一種顯示裝置,包括任一所述的顯示基板。
本申請(qǐng)又一實(shí)施例提供一種顯示基板的制備方法,包括:
在基底上形成驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層包括薄膜晶體管;
在所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層背離所述基底的一側(cè)形成像素界定層,所述像素界定層中含有紫外光屏蔽材料。
可選地,所述在所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層背離所述基底的一側(cè)形成像素界定層,包括:
制備含有所述紫外光屏蔽材料的前驅(qū)溶液;
在所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)層背離所述基底的一側(cè)形成前驅(qū)溶液薄膜;
對(duì)所述前驅(qū)溶液薄膜進(jìn)行圖案化處理,則形成所述像素界定層。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





